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wpawj 2024-05-16 23:01

離子源前處理時(shí)間問題

請(qǐng)教一下,鍍膜前的離子源前處理時(shí)間多長(zhǎng)合適,有什么依據(jù)或者判定標(biāo)準(zhǔn)嗎?
ouyuu 2024-05-17 08:57
和離子源能量強(qiáng)度有關(guān),哪怕同一個(gè)離子源,新柵網(wǎng)和舊柵網(wǎng)的能量差距也有50%以上。前處理的目的主要是 m2uML*&O5K  
1,用氧離子氧化表面的臟污(臟污的主要成分是碳、氮、氫、氧,氧化后都變成氣體揮發(fā)了) P9i9<pR  
2,用重離子把表面打出凹凸不平的效果,增加表面的結(jié)合力。 OO\biYh o  
所以也和你清洗效果,清洗方式,鍍膜溫度,鍍膜材料有關(guān)。 9=~H6(m>  
zhangsui666 2024-05-17 17:48
一般來說轟擊15分鐘左右就夠,但是還是在進(jìn)爐前清洗工作一定要仔細(xì),離子源主要為了輔助沉積。
renlgj 2024-07-21 17:12
學(xué)習(xí)一下,新手中
renlgj 2024-07-27 15:36
學(xué)習(xí)了,謝謝各位大神
gaofei555 2024-07-30 08:38
ouyuu:和離子源能量強(qiáng)度有關(guān),哪怕同一個(gè)離子源,新柵網(wǎng)和舊柵網(wǎng)的能量差距也有50%以上。前處理的目的主要是 HDSA]{:sl  
1,用氧離子氧化表面的臟污(臟污的主要成分是碳、氮、氫、氧,氧化后都變成氣體揮發(fā)了) ~Miin   
2,用重離子把表面打出凹凸不平的效果,增加表面的結(jié)合力。 ^{fi^lL=  
所以也和你清洗效果,清洗 .. (2024-05-17 08:57)  f}lT|.)?VD  
PD}SPOA`U3  
學(xué)習(xí)了
cwl563590 2024-12-08 20:27
ouyuu:和離子源能量強(qiáng)度有關(guān),哪怕同一個(gè)離子源,新柵網(wǎng)和舊柵網(wǎng)的能量差距也有50%以上。前處理的目的主要是 Pghva*&  
1,用氧離子氧化表面的臟污(臟污的主要成分是碳、氮、氫、氧,氧化后都變成氣體揮發(fā)了) cYq']$]  
2,用重離子把表面打出凹凸不平的效果,增加表面的結(jié)合力。 je- , S>U  
所以也和你清洗效果,清洗 .. (2024-05-17 08:57)  QLF,/"  
Wk\mgGn+  
學(xué)習(xí)了。感謝版主分享。
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