| 小火龍果 |
2024-07-19 16:58 |
SYNOPSYS 光學設計軟件課程七十九：反射式光刻物鏡設計
一．概述 ZLZh$eZZ
隨著光刻分辨率的不斷提高，光學光刻機中采用的投影物鏡結構型式經歷了演變和篩選過程。在早期的低分辨率光刻機中，全反射型、全折射型、折反射型多種結構型式并存：在目前的高分辨率光刻機中，全折射式結構型式是主流。 =5;t B
(O$il
與全折射式結構型式相比，折反射式結構的投影物鏡具有許多優(yōu)越的光學性能，但其在光刻機中的真正使用尚需克服許多技術問題。在現代高分辨率光學光刻機中，投影物鏡的結構型式大致分為兩類：全折射型和折反射型。 XW.k%H4@
| |