上海光機所在干涉儀絕對標定方法研究方面取得進展

近日，中科院上海光機所高端光電裝備部研究團隊在基于功率譜密度分析的干涉測試絕對檢測方法研究方面取得進展。相關研究成果以“Improving the Accuracy of Interferometer Testing with Absolute Surface Calibration and Power Spectral Density Analysis”為題發(fā)表于Optics and Lasers in Engineering。 Ku'U^=bVm:  
高精度光學元件已經充分應用于激光技術、光學通信、醫(yī)學影像、天文學和空間探測、半導體制造和科學研究等領域。使用干涉儀是目前高精度光學檢測的主要方法。為了實現(xiàn)測試元件的高精度檢測，必須控制參考元件的表面絕對誤差，所以相關的絕對檢測技術也應運而生。 v%Xe)D