H4沖氧不穩(wěn)，應(yīng)該怎么排除？

我們有臺鍍膜機(jī)H4電子槍充氧量用的壓控，設(shè)計充到1.0-2，但每一鍋都不太穩(wěn)定，有時候充到7.5-3，有時候充到8.3-3，也有能充到1.0-2的，H4是手動熔的，一般就鍍普通AR,導(dǎo)致分光變來變?nèi)�，穩(wěn)定不住，請教大佬們，這種情況是藥里面雜質(zhì)多還是壓控控制系統(tǒng)有問題？應(yīng)該怎么排除？

renlgj	2024-09-16 15:37
坐等分析

yzhuang	2024-09-20 09:09
控制軟件PID參數(shù)調(diào)整一下，一般是可以恒壓的，當(dāng)然，如果放氣量很不穩(wěn)定也可能導(dǎo)致控制失敗 Rn#KfI:{

度魔銀	2024-09-20 09:54
1.手動融料重復(fù)性不好 k $M]3}$U 2鍍膜機(jī)真空度是否有漏氣現(xiàn)象 !GOM5z, 3.充氧控制改固定參數(shù) ,_\|]Ufr!a 4.真空計污染導(dǎo)致真空不準(zhǔn)確

bilong	2024-09-20 16:10
yzhuang:控制軟件PID參數(shù)調(diào)整一下，一般是可以恒壓的，當(dāng)然，如果放氣量很不穩(wěn)定也可能導(dǎo)致控制失敗 }YjX3\|8zL= (2024-09-20 09:09) 9V,!R{kO! dp++%:j 感謝回復(fù)，我們這個只能設(shè)定數(shù)值，PID調(diào)不了

bilong	2024-09-20 16:12
度魔銀:1.手動融料重復(fù)性不好 baJxU:Y=p 2鍍膜機(jī)真空度是否有漏氣現(xiàn)象 w$H^q !( 3.充氧控制改固定參數(shù) a\IP12F? 4.真空計污染導(dǎo)致真空不準(zhǔn)確 (2024-09-20 09:54) \|fxA\|/s[< lE!a 感謝回復(fù)，我們先定量充氧試試

ouyuu

2024-10-22 22:50

真空計和沖氧口的位置和距離很重要，如果壓力周期性波動的話，就調(diào)整真空計位置。
但是現(xiàn)在看來好像是沖氧的壓控問題。
真空計一般是用電壓信號，要保證壓控儀和真空計用的電壓定義是一樣的。
另外要排除信號干擾，如果真空信號受干擾了，那么肯定無法穩(wěn)定的進(jìn)行控制。
最后一個應(yīng)該就是壓控儀本身的問題，比如PID參數(shù)過大導(dǎo)致調(diào)節(jié)緩慢。

bilong

2024-10-23 10:02

ouyuu:真空計和沖氧口的位置和距離很重要，如果壓力周期性波動的話，就調(diào)整真空計位置。 rC.eyq,105
但是現(xiàn)在看來好像是沖氧的壓控問題。 -b9;5eS!
真空計一般是用電壓信號，要保證壓控儀和真空計用的電壓定義是一樣的。 q}/WQ]p} <
另外要排除信號干擾，如果真空信號受干擾了，那么肯定無法穩(wěn)定的進(jìn)行控制。 p. R2gl1m
最后一個應(yīng) .. (2024-10-22 22:50) 2$14q$eb

感謝大佬解惑，充氧口是固定的，真空計玻璃規(guī)的位置我們每次換沒注意位置，才知道這個也會影響真空數(shù)據(jù)，我們現(xiàn)在定量充氧40，分光比原來穩(wěn)定了很多，但每層H4充氧后的真空度都有差異

renlgj	2024-10-26 12:47
學(xué)習(xí)中成長

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H4沖氧不穩(wěn)，應(yīng)該怎么排除？

H4沖氧不穩(wěn)，應(yīng)該怎么排除？