線下課程——薄膜設(shè)計(jì)與鍍膜工藝(12月4~6日)
課程編號(hào)CS240016 *-,jIaL; FCIA8^}s 時(shí)間地點(diǎn) Q&`if
O e13' dCG 主辦單位:訊技光電科技(上海)有限公司;蘇州黌論教育咨詢有限公司 ZOzwO6(_ 授課時(shí)間:2024年12月4 (三)-6(五)共3天 AM 9:00-PM 16:00 j`l'Mg 授課地點(diǎn):上海市嘉定區(qū)南翔銀翔路819號(hào)中暨大廈18樓1805室 Wagb|B\ 課程講師:訊技光電高級(jí)工程師&資深顧問(wèn) =2OLyZDI 課程費(fèi)用:4800RMB(課程包含課程材料費(fèi)、開(kāi)票稅金、午餐) J/>9w Aq,&p,m03 特邀專家介紹 ojbms>a
&:[hUn8jU 易葵:中國(guó)科學(xué)院上海光機(jī)所正高級(jí)工程師,主要從事光學(xué)薄膜設(shè)計(jì)、制備工藝和測(cè)試相關(guān)方面的研究工作,尤其是在高功率激光薄膜、空間激光薄膜、X射線多層膜、真空鍍膜技術(shù)與薄膜制備工藝研究等方面有較為深入的研究。獲得國(guó)家技術(shù)發(fā)明獎(jiǎng)二等獎(jiǎng)、上海市技術(shù)發(fā)明獎(jiǎng)一等獎(jiǎng)、上海市科技進(jìn)步二等獎(jiǎng)、軍隊(duì)科技進(jìn)步二等獎(jiǎng)等獎(jiǎng)項(xiàng),入選2014年度中科院“現(xiàn)有關(guān)鍵技術(shù)人才”。 Jq8:33s X*<
!_3 課程簡(jiǎn)介 cL+bMM$4r~ qk_YFR?R 隨著現(xiàn)代科技的飛速發(fā)展,光學(xué)薄膜的應(yīng)用越來(lái)越廣泛。光學(xué)薄膜的發(fā)展極大地促進(jìn)了現(xiàn)代光學(xué)儀器性能的提高,其種類非常廣泛,如增透膜,高反膜,分光膜,濾光片等,光學(xué)薄膜器件如今已經(jīng)廣泛應(yīng)用到光通信技術(shù)、光伏產(chǎn)業(yè)技術(shù)、激光技術(shù)、光刻技術(shù)、航空航天技術(shù)等諸多領(lǐng)域。本次課程第一天主要為國(guó)際知名的光學(xué)薄膜分析軟件Essential Macleod的使用,第二天為各種類型的光學(xué)薄膜的設(shè)計(jì)模擬方法,前兩天主講人為訊技光電高級(jí)工程師,第三天特別邀請(qǐng)上海光學(xué)精密機(jī)械研究所專家易葵,分享光學(xué)薄膜制備工藝、激光薄膜關(guān)鍵技術(shù)以及光學(xué)薄膜的測(cè)量方法等相關(guān)內(nèi)容。 ZRn!z`.0 M-zqD8D 課程大綱 `%$l
b:e |'!9mvt= 1. Essential Macleod軟件介紹1.1 介紹軟件 zOn%\ 1.2 創(chuàng)建一個(gè)簡(jiǎn)單的設(shè)計(jì)1.3 繪圖和制表來(lái)表示性能 8c<OX! 1.4 通過(guò)剪貼板和文件導(dǎo)入導(dǎo)出數(shù)據(jù)1.5 可用的材料模型(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann) >p>B-m 1.6 特定設(shè)計(jì)的公式技術(shù)1.7 交互式繪圖 7R#$Hm 2. 光學(xué)薄膜理論基礎(chǔ)2.1 垂直入射時(shí)的界面和薄膜特性計(jì)算 \xjI=P'-25 2.2 后表面對(duì)光學(xué)薄膜特性的影響3. 材料管理 ;R*tT%Z, 3.1 材料模型3.2 介質(zhì)薄膜光學(xué)常數(shù)的提取 "7}e~*bM?` 3.3 金屬薄膜光學(xué)常數(shù)的提取3.4 基板光學(xué)常數(shù)的提取 Rc#c^F< 4. 光學(xué)薄膜設(shè)計(jì)優(yōu)化方法4.1 參考波長(zhǎng)與g bF c
% 4.2 四分之一規(guī)則4.3 導(dǎo)納與導(dǎo)納圖 qt=nN-AC( 4.4 斜入射光學(xué)導(dǎo)納4.5 光學(xué)薄膜設(shè)計(jì)的進(jìn)展 3Q2z+`x' 4.6 Macleod軟件的設(shè)計(jì)與優(yōu)化功能4.6.1 優(yōu)化目標(biāo)設(shè)置 ;t\C!A6 4.6.2 優(yōu)化方法(單一優(yōu)化,合成優(yōu)化,模擬退火法,共軛梯度法,準(zhǔn)牛頓法,針形優(yōu)化,差分演化法)4.6.3 膜層鎖定和鏈接 I.{%e;Reg 5. 光學(xué)薄膜系統(tǒng)設(shè)計(jì)與分析案例與應(yīng)用5.1 減反射薄膜 .2x`Fj;o1 5.2 分光膜5.3 高反射膜 &H:2TL! 5.4 干涉截止濾光片5.5 窄帶濾光片 Ry`Y + 5.6 負(fù)濾光片5.7 非均勻膜與Rugate濾光片 (
P\oLr9 5.8 仿生蛾眼/復(fù)眼結(jié)構(gòu)5.9 顏色膜 gT#hF]c: 5.10 Vstack薄膜設(shè)計(jì)示例5.11 Stack應(yīng)用范例說(shuō)明 @2/xu 6. 薄膜性能分析6.1 電場(chǎng)分布 #sb@)Q 6.2 公差與靈敏度分析6.3 反演工程 ,niQs+'< 6.4 均勻性,摻雜/孔隙材料仿真7. 真空技術(shù) m:]60koz]o 7.1 常用真空泵介紹7.2 真空密封和檢漏 G%XjDxo$I 8. 薄膜制備技術(shù)8.1 常見(jiàn)薄膜制備技術(shù) k[8{N 9. 薄膜制備工藝9.1 薄膜制備工藝因素 ;hCUy=m. 9.2 薄膜均勻性修正技術(shù)9.3 光學(xué)薄膜監(jiān)控技術(shù) g;\_MbfP 10. 激光薄膜10.1 薄膜的損傷問(wèn)題 <>R\lPI2 10.2 激光薄膜的制備流程10.3 激光薄膜的制備技術(shù) <4RP:2# 11. 光學(xué)薄膜特性測(cè)量11.1 薄膜光譜測(cè)量 n1)~/
> 11.2 薄膜光學(xué)常數(shù)測(cè)量11.3 薄膜應(yīng)力測(cè)量 Dz<vIMLF{ 11.4 薄膜損傷測(cè)量11.5 薄膜形貌、結(jié)構(gòu)與組分分析 arb'.:[z^ 對(duì)此課程感興趣可以掃碼加微聯(lián)系[attachment=130513]
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