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infotek 2024-10-22 14:11

線下課程——薄膜設(shè)計(jì)與鍍膜工藝(12月4~6日)

課程編號(hào)CS240016                                                                             *d}{7UMy#  
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時(shí)間地點(diǎn) Gf<%bQE  
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主辦單位:訊技光電科技(上海)有限公司;蘇州黌論教育咨詢有限公司 L YMb)=u]  
授課時(shí)間:2024年12月4 (三)-6(五)共3天  AM 9:00-PM 16:00 [g@ .dr3t  
授課地點(diǎn):上海市嘉定區(qū)南翔銀翔路819號(hào)中暨大廈18樓1805室 t|v_[Za}Z  
課程講師:訊技光電高級(jí)工程師&資深顧問 {KqERS& g  
課程費(fèi)用:4800RMB(課程包含課程材料費(fèi)、開票稅金、午餐) tWI %P&b  
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特邀專家介紹 "[2D&\$  
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易葵:中國(guó)科學(xué)院上海光機(jī)所正高級(jí)工程師,主要從事光學(xué)薄膜設(shè)計(jì)、制備工藝和測(cè)試相關(guān)方面的研究工作,尤其是在高功率激光薄膜、空間激光薄膜、X射線多層膜、真空鍍膜技術(shù)與薄膜制備工藝研究等方面有較為深入的研究。獲得國(guó)家技術(shù)發(fā)明獎(jiǎng)二等獎(jiǎng)、上海市技術(shù)發(fā)明獎(jiǎng)一等獎(jiǎng)、上海市科技進(jìn)步二等獎(jiǎng)、軍隊(duì)科技進(jìn)步二等獎(jiǎng)等獎(jiǎng)項(xiàng),入選2014年度中科院“現(xiàn)有關(guān)鍵技術(shù)人才”。 qR^i5JH}u  
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課程簡(jiǎn)介 T-.Bof(?w  
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隨著現(xiàn)代科技的飛速發(fā)展,光學(xué)薄膜的應(yīng)用越來越廣泛。光學(xué)薄膜的發(fā)展極大地促進(jìn)了現(xiàn)代光學(xué)儀器性能的提高,其種類非常廣泛,如增透膜,高反膜,分光膜,濾光片等,光學(xué)薄膜器件如今已經(jīng)廣泛應(yīng)用到光通信技術(shù)、光伏產(chǎn)業(yè)技術(shù)、激光技術(shù)、光刻技術(shù)、航空航天技術(shù)等諸多領(lǐng)域。本次課程第一天主要為國(guó)際知名的光學(xué)薄膜分析軟件Essential Macleod的使用,第二天為各種類型的光學(xué)薄膜的設(shè)計(jì)模擬方法,前兩天主講人為訊技光電高級(jí)工程師,第三天特別邀請(qǐng)上海光學(xué)精密機(jī)械研究所專家易葵,分享光學(xué)薄膜制備工藝、激光薄膜關(guān)鍵技術(shù)以及光學(xué)薄膜的測(cè)量方法等相關(guān)內(nèi)容。 43/!pW  
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課程大綱 F=V_ACU  
Ya ~lPc  
1. Essential Macleod軟件介紹1.1 介紹軟件 \)+s)&JLb  
1.2 創(chuàng)建一個(gè)簡(jiǎn)單的設(shè)計(jì)1.3 繪圖和制表來表示性能 M*<Bp   
1.4 通過剪貼板和文件導(dǎo)入導(dǎo)出數(shù)據(jù)1.5 可用的材料模型(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann) ]MRQcqbpqL  
1.6 特定設(shè)計(jì)的公式技術(shù)1.7 交互式繪圖 %s#`Z [8,  
2. 光學(xué)薄膜理論基礎(chǔ)2.1 垂直入射時(shí)的界面和薄膜特性計(jì)算 3NlG,e'T2  
2.2 后表面對(duì)光學(xué)薄膜特性的影響3. 材料管理 OYY_@'D  
3.1 材料模型3.2 介質(zhì)薄膜光學(xué)常數(shù)的提取 Wf9K+my  
3.3 金屬薄膜光學(xué)常數(shù)的提取3.4 基板光學(xué)常數(shù)的提取 v$EgVc K  
4. 光學(xué)薄膜設(shè)計(jì)優(yōu)化方法4.1 參考波長(zhǎng)與g W4rh7e4  
4.2 四分之一規(guī)則4.3 導(dǎo)納與導(dǎo)納圖 DTM xfQdk  
4.4 斜入射光學(xué)導(dǎo)納4.5 光學(xué)薄膜設(shè)計(jì)的進(jìn)展 xwZ7I  
4.6 Macleod軟件的設(shè)計(jì)與優(yōu)化功能4.6.1 優(yōu)化目標(biāo)設(shè)置 g?e-D.pSF  
4.6.2 優(yōu)化方法(單一優(yōu)化,合成優(yōu)化,模擬退火法,共軛梯度法,準(zhǔn)牛頓法,針形優(yōu)化,差分演化法)4.6.3 膜層鎖定和鏈接 z1~FE  
5. 光學(xué)薄膜系統(tǒng)設(shè)計(jì)與分析案例與應(yīng)用5.1 減反射薄膜 =d1i<iw?-  
5.2 分光膜5.3 高反射膜 ZN-5W|' O  
5.4 干涉截止濾光片5.5 窄帶濾光片 y3NMt6  
5.6 負(fù)濾光片5.7 非均勻膜與Rugate濾光片 W*Ce1  
5.8 仿生蛾眼/復(fù)眼結(jié)構(gòu)5.9 顏色膜 Y%YPR=j~ &  
5.10 Vstack薄膜設(shè)計(jì)示例5.11 Stack應(yīng)用范例說明 zXT[}J VV  
6. 薄膜性能分析6.1 電場(chǎng)分布 ]tO9<  
6.2 公差與靈敏度分析6.3 反演工程 a+p_47 xa  
6.4 均勻性,摻雜/孔隙材料仿真7. 真空技術(shù) q-nM]Gm  
7.1 常用真空泵介紹7.2 真空密封和檢漏 4e9'yi  
8. 薄膜制備技術(shù)8.1 常見薄膜制備技術(shù) m; m4/z3U  
9. 薄膜制備工藝9.1 薄膜制備工藝因素 Y )9]I6n7  
9.2 薄膜均勻性修正技術(shù)9.3 光學(xué)薄膜監(jiān)控技術(shù) 5wGc"JHm  
10. 激光薄膜10.1 薄膜的損傷問題 \&1Di\eL  
10.2 激光薄膜的制備流程10.3 激光薄膜的制備技術(shù) #wL8=QTcNC  
11. 光學(xué)薄膜特性測(cè)量11.1 薄膜光譜測(cè)量 l@nG?l #  
11.2 薄膜光學(xué)常數(shù)測(cè)量11.3 薄膜應(yīng)力測(cè)量 5ofsJ!b'  
11.4 薄膜損傷測(cè)量11.5 薄膜形貌、結(jié)構(gòu)與組分分析 sp&)1?!M  
對(duì)此課程感興趣可以掃碼加微聯(lián)系[attachment=130513]
度魔銀 2024-10-23 08:50
這個(gè)可以有,哈哈哈
xiaopingzi 2024-11-05 15:36
這個(gè)好 r]+N(&q  
infotek 2024-11-06 10:36
大家對(duì)此課程有興趣可以加我微信18001704725
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