| infotek | 2024-10-30 07:51 |
設計和分析GRIN擴散器（完整） 本教程將介紹設計和分析生成Top Hat圖案的折射率調制擴散器圖層。 設計包括兩個步驟： - 設計相位函數(shù)來生成一個角譜Top Hat分布。 - 基于相位調制來計算對應的折射率調制。 設計相位函數(shù)是基于案例DO.002。在開始設計一個梯度折射率擴散器之前，我們迫切地推薦您先閱讀這個案例。  照明光束參數(shù) | |
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