散射方向關(guān)注的區(qū)域-重點(diǎn)采樣技術(shù)
簡(jiǎn)介 lV4TFt, (0LA.aBIf 散射方向關(guān)注的區(qū)域(Scatter Direction Regions of Interest)是有效散射計(jì)算的主要部分。它們可以將散射光線引導(dǎo)到只關(guān)注的區(qū)域。在產(chǎn)生散射光線時(shí),F(xiàn)RED評(píng)估由散射方向關(guān)注的區(qū)域所朝向的立體角,并處理輻射度,以便于基于BSDF散射模型可以計(jì)算正確的通量。本文提供了一個(gè)分步過程,用于定位和確定最大效率的散射方向關(guān)注區(qū)域的大小。 4Y1^ U{A+
圖1.在光學(xué)表面上具有散射方向關(guān)注的區(qū)域的庫克三片式鏡頭的光線追跡 %Y'/_
esH2 散射方向關(guān)注的區(qū)域在每個(gè)表面(Surface)對(duì)話框的散射(Scatter)選項(xiàng)卡上指定,如圖2所示。多個(gè)散射方向關(guān)注的區(qū)域可以分配給任何給定表面。然而,應(yīng)注意不要給表面分配重疊的多個(gè)散射方向關(guān)注的區(qū)域,因?yàn)镕RED將不會(huì)辨別這種重疊,因此散射通量將被過度估算。 t4:/qy l,b,U/3R. upk_;ae
圖2.指定散射方向關(guān)注的區(qū)域的表面散射標(biāo)簽 bZfq? 所有表面在創(chuàng)建時(shí)都分配有默認(rèn)的散射方向關(guān)注的區(qū)域。該默認(rèn)值的類型是散射到給定方向(Scatter into a given direction),如圖3所示,其散射到圍繞給定方向朝向給定半角的錐形。方向矢量可以在任何坐標(biāo)系中指定。有關(guān)散點(diǎn)方向關(guān)注區(qū)域類型的完整列表,請(qǐng)參閱FRED的幫助主題-重點(diǎn)采樣(Importance Sampling)。 <GQ=PrT|/ ZK'WKC
圖3.默認(rèn)重點(diǎn)采樣 pMViq0 根據(jù)其中發(fā)生散射的光學(xué)空間,存在兩種關(guān)注的一般情況。首先,考慮準(zhǔn)直空間的情況,其包括外部平坦窗口,以及無焦和重新成像光學(xué)器件之間的中間空間。在這種空間中,探測(cè)器表面尺寸和位置由其尺寸和系統(tǒng)視場(chǎng)(FOV)決定。因此,準(zhǔn)直空間中最有效的散射方向關(guān)注的區(qū)域類型是默認(rèn)的散射到給定方向,同時(shí)設(shè)置適當(dāng)?shù)慕嵌取?/span> MzKl=G z+wegF
圖4.閉合曲線散射方向關(guān)注的區(qū)域 Y|hd!C-x 接下來,考慮光學(xué)系統(tǒng)內(nèi)的光束在其中會(huì)聚或發(fā)散的區(qū)域。在這些空間中,散射方向關(guān)注的區(qū)域可以被認(rèn)為是從給定表面看到的探測(cè)器的表觀位置和大小。因此,最有效的散射方向關(guān)注的區(qū)域類型是通過閉合曲線散射(Scatter through a closed curve),如圖4所示。本文概述的步驟設(shè)計(jì)為確定該閉合曲線的大小和位置。 ^
.A \k=%G_W 關(guān)于圖3和4中的對(duì)話框上的其他數(shù)據(jù)(Other Data),反轉(zhuǎn)光線方向(Reverse Ray Directions)、散射光線數(shù)目(Number of Scattered Rays)的選項(xiàng)與本討論相關(guān)。反轉(zhuǎn)光線方向?qū)е律⑸涔饩被引導(dǎo)遠(yuǎn)離散射方向關(guān)注的區(qū)域。 當(dāng)探測(cè)器的表觀位置為虛擬時(shí),此選項(xiàng)是必需的。散射光線數(shù)目選項(xiàng)可以設(shè)置每個(gè)入射光線散射射線的數(shù)量。此數(shù)值確定了散射光線對(duì)散射方向關(guān)注的區(qū)域采樣的程度。 對(duì)于相對(duì)小的朝向立體角,默認(rèn)10是足夠的。然而,在探測(cè)器的表觀形狀高度畸變的情況下,有必要增大該值。 #{?RE?nD wEI?
9 在會(huì)聚和發(fā)散空間中尋找散射方向關(guān)注的區(qū)域 w}$;2g0=a< OQ<;w 以下闡述的8個(gè)步驟定義了用于在成像系統(tǒng)中找到散射方向關(guān)注的區(qū)域的系統(tǒng)方法。這些步驟可以使用FRED的腳本語言自動(dòng)完成。 OR|Jc+LT &P35\q 1)在目標(biāo)表面的中心創(chuàng)建一個(gè)發(fā)射光源。該光源應(yīng)為詳細(xì)光源(Detailed Source),位置類型是隨機(jī)平面(Random Plane),方向類型是一個(gè)角度范圍內(nèi)的隨機(jī)方向(Random Directions into an angular range),如圖5所示。通過將光源的起始坐標(biāo)系設(shè)置為目標(biāo)表面的起始坐標(biāo)系,可以容易地定位光源。[注意:根據(jù)目標(biāo)表面局部坐標(biāo)系的方向,可能需要將光線方向(Ray Direction)下的ZDir組件設(shè)置為-1。]給該光源一個(gè)接近零的尺寸(紅色箭頭1)和一個(gè)足夠的角度擴(kuò)展(紅色箭頭2),足夠從探測(cè)器上的任何位置填充系統(tǒng)f錐體。盡管光線會(huì)被浪費(fèi),但沒關(guān)系。 I*cb\eU8Y xc`O\z_) Rd]<591
圖5.光線位置和方向的詳細(xì)光源設(shè)置(參考步驟1) ^vxNS[C`; 2)使用如圖6所示的高級(jí)光線追跡(Advanced Raytrace)對(duì)話框,追跡該光源到關(guān)注的元件。這應(yīng)該使用明確指定開始/停止表面(Specify start/stop surfaces explicitly),如紅色箭頭3所示進(jìn)行。選擇不要執(zhí)行透射/反射操作(Do not perform the transmit/reflect operation)選項(xiàng),如紅色箭頭4所示。為了防止其他表面的外來散射干擾計(jì)算,請(qǐng)選擇Suppress ray scattering選項(xiàng),如紅色箭頭5所示。也可以禁用光線追跡摘要(Raytrace Summary)來限制打印到FRED的輸出窗口。 ubVZEsoW? [注意:高級(jí)光線追跡對(duì)話框是無模式的,應(yīng)在步驟4中使應(yīng)用/追跡(Apply/Trace)按鈕保持打開狀態(tài)。確定按鈕將關(guān)閉對(duì)話框,以便在后續(xù)操作中重新設(shè)置這些選項(xiàng)。 THK^u+~LM SXJjagAoML .i|nn[H &
圖6.步驟2中重要采樣測(cè)定的高級(jí)光線追跡設(shè)置 4N7|LxNNl_ 3)執(zhí)行此追跡后,打開最佳幾何聚焦(Best geometric focus)對(duì)話框,如圖7所示。最佳幾何聚焦必須僅考慮關(guān)注元件上的光線,因此光線選擇標(biāo)準(zhǔn)(Ray Selection Criteria)(紅色箭頭6)應(yīng)指示相同的表面,如在圖6所示(紅色箭頭3)。為了一致性,建議在全局坐標(biāo)系(紅色箭頭7)中進(jìn)行該計(jì)算。 {KEmGHC4R }rs>B,=*k
圖7.最佳聚焦對(duì)話框 10m|? 最佳聚焦位置打印在FRED的輸出窗口中,如圖8(紅色箭頭8)所示。這是關(guān)注的重點(diǎn)采樣區(qū)域的位置。如果該位置和探測(cè)器的實(shí)際位置在表面的同一側(cè),則關(guān)注的重點(diǎn)采樣區(qū)域是實(shí)像。如果散射表面位于最佳聚焦位置和探測(cè)器之間,則關(guān)注的重點(diǎn)采樣區(qū)域是虛像。在后一種情況下,必須檢查反轉(zhuǎn)光線方向(Reverse Ray Directions)選項(xiàng)。注意在步驟5中使用的歸一化的平均光線方向(紅色箭頭9)。 aZtM
_ wPcEvGBN=
圖8.最佳聚焦計(jì)算的輸出 }&6:0l$4! 4)返回到發(fā)射光源對(duì)話框(圖9),并將隨機(jī)平面 XY尺寸(紅色箭頭10)設(shè)置為等于探測(cè)器的尺寸。使用與步驟2中相同的設(shè)置,使用高級(jí)光線追跡對(duì)話框再次追跡光源。 ;/+U.I%z @*UV|$~(Q
圖9:隨機(jī)平面尺寸 ,]n~j-X 5)打開光線追跡菜單上的光線操作功能(Ray Manipulation Utility)(圖10),選擇傳播到(Propagate to)(紅色箭頭11)。如果我們參考圖8(紅色箭頭9),平均光線方向?qū)⒅甘具x擇哪個(gè)下拉選項(xiàng)。如果向量是[±1,0,0],則為X坐標(biāo)軸;如果向量為[0, ±1,0],則為Y坐標(biāo)軸;如果向量為[0,0, ±1],則為Z坐標(biāo)軸。輸入在步驟3中確定的相應(yīng)的X,Y或Z最佳聚焦值(紅色箭頭8)。底部的光線規(guī)格(紅色箭頭13)必須設(shè)置為與圖7的最佳對(duì)焦對(duì)話框(紅色箭頭6)相同,以確保只移動(dòng)關(guān)注的元件上的光線。 `YMd0* +.|RH
圖10.用于將光線移動(dòng)到最佳焦點(diǎn)的實(shí)用程序 "oF)u1_? 6)使用光線統(tǒng)計(jì)(Ray Statistics)(Shift + F12)打印“移動(dòng)”光線的最小/最大X、Y和Z值,如圖11所示。這些值確定重點(diǎn)采樣的大小。注意,“移動(dòng)的光線”由“系統(tǒng)”擁有(紅色箭頭14)。這些最小/最大值定義了表征探測(cè)器的表觀尺寸的矩形的尺寸(在大多數(shù)情況下)。此矩形可以由為分段曲線閉合實(shí)習(xí)。 )_4()#3 uq54+zC
圖11.“移動(dòng)”光線的光線統(tǒng)計(jì)輸出 ?*7Mn` 來自最佳聚焦計(jì)算的平均射線方向(紅色箭頭9)定義了垂直于閉合曲線的向量。在大多數(shù)情況下,平均光線方向是系統(tǒng)的光軸。當(dāng)光軸沿Z [X或Y]時(shí),X&Y [Y&Z或X&Z] 最小/最大值是閉合曲線尺寸。使用步驟7a創(chuàng)建散射方向關(guān)注的區(qū)域。如果平均射線方向矢量偏向主軸,則使用步驟7b創(chuàng)建散射方向關(guān)注的區(qū)域。 \ptjnwC^O M1*bT@6 7)創(chuàng)建您的關(guān)注重點(diǎn)采樣區(qū)域(兩種方法選其一) $P%cdJ
|