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infotek 2025-01-02 07:52

VirtualLab Fusion應用:場曲分析儀

摘要
                          
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雖然現(xiàn)代光學的發(fā)展導致了不同組件數(shù)量的激增,但透鏡仍然在光學系統(tǒng)中扮演著重要的角色。由于它們的彎曲性質(zhì),大多數(shù)透鏡系統(tǒng)的焦點將位于曲線上,而不是透鏡后面的平面上。這導致在實際焦點位置和光束與位于透鏡后面焦距的平面的交點之間產(chǎn)生角度相關(guān)的偏差。然而,大多數(shù)用于成像的探測器都是平面的。這種效應被稱為“場曲”,是任何透鏡系統(tǒng)性能分析中需要考慮的一個重要像差。在這個用例中,我們引入一個專門的分析器來研究這種影響。                                                                     ajD/)9S  
場曲                                                               oMF[<Xf  
場曲,也稱為“場的曲率”,是一種常見的光學效應,它會使平面物體在畫面的某些部分看起來很銳利,而不是在整個幀上均勻銳利。這是由于大多數(shù)光學元件的彎曲性質(zhì)造成的,它們將圖像投影到曲面上,而不是平面上。它被定義為Δz和Φ之間的函數(shù)。
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哪里可以找到場曲分析器
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分析的組件
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