| wzc520 |
2007-06-01 16:59 |
光學設(shè)計中的名詞解釋
角放大率 udc9$uO
近軸像空間主光線的角度與近軸物空間主光線角度之比。角度的計算考慮近軸的入瞳和出瞳位置。 NHc+QMbou(
變跡法 5o~Z>
變跡法指的是光學系統(tǒng)的入瞳照明的均勻程度。在缺省的情況下入瞳總是均勻照明的。但在需要得時候，入瞳必須有必要采用非均勻照明。為此，支持入瞳變跡法，這樣使得入瞳上的光能量的振幅可為變量。ZEMAX支持三種入瞳變跡法：均勻分布，高斯分布和正切分布。對每一種振幅分布（除均勻分布），變跡因子決定了光能量振幅對入瞳變化比例。參見“系統(tǒng)菜單”中變跡類型和變跡因子的討論。 n6o} $]H
ZEMAX也支持用戶自定義變跡，而且用戶自定義變跡可置于任何一個表面。表面變跡的作用不同于入瞳變跡，原因在于表面不一定位于入瞳。關(guān)于表面變跡的更多信息，參見“表面類型”一章中的“用戶自定義表面”。 ^U_jeAuk8[
后焦長度 # |UrHK;
ZEMAX定義后焦長度如下：最后一個玻璃面到與無窮遠物體共軛的近軸像面的Z軸方向上的距離。如果光學系統(tǒng)中沒有玻璃面，則后焦長度定義為第一個面到與無窮遠物體共軛的近軸像面的Z軸距離。 tOko %vY8
基面 DTIy/
基面這一術(shù)語（有時也稱為基點）源于那些特定的共軛位置，在這些位置上物面與像面有確定的放大率。 _F3 vC#
基面包含主面（其上的橫向放大率為1），反基面（其上的橫向放大率為-1），節(jié)點平面（其上的角放大律為1），反節(jié)點平面（其上的角放大律為-1），焦平面（對像空間焦平面而言放大率為0，對物空間焦平面而言放大率為∞） \+Cp <Hv+
除焦平面以外，其他基面都是相互共軛的，也就是說像空間的主平面和物空間的主平面共軛，其它依此類推。如果像空間和物空間的折射率相等，節(jié)點平面和主平面重合。 nj9hRiL n
ZEMAX列出了像面到不同的像空間平面的距離，同時也列出了第一個面到不同的物空間平面的距離。 \W@?revK
主光線 hcaH
如果光學系統(tǒng)沒有漸暈并且沒有像差，主光線就被定義為通過特殊場點的光線，它通過入瞳中心，到像平面上。請注意，在沒有漸暈和像差的情況下，任何通過入瞳中心的光線也將通過孔徑光闌和出瞳的中心。 98
| |