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光行天下 -> 光學(xué)薄膜設(shè)計,工藝與設(shè)備 -> 關(guān)于沉積速率調(diào)整的一個問題 [點此返回論壇查看本帖完整版本]

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oudexu	2009-01-06 20:48
關(guān)于沉積速率調(diào)整的一個問題請教大家一個問題 MLmc]nL= 假如要降低鍍膜的沉積速度，把靶基距調(diào)大或減小靶的濺射率，它們的效果一樣嗎？比如鍍出來的膜的折射率，消光系數(shù)，薄膜的晶體結(jié)構(gòu)等有什么差別嗎？ Y,WcHE 機器：離子濺射

timberwolf	2009-03-25 10:29
當(dāng)然不一樣。膜層的附著力、應(yīng)力和均勻性都效果不同。就看你的要求了。

renlgj	2024-08-22 22:36
跟著學(xué)習(xí)了

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