| sen特殊光源 |
2010-12-17 16:31 |
紫外線表面清洗
1.紫外線表面清洗 ZJ
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紫外線表面清洗是近年來新興的清洗方法。紫外線表面清洗法不同于原有清洗法，沒有污水，污氣產(chǎn)生。是高能環(huán)保型清洗殺菌方法。廣泛運(yùn)用于LCD,PCB，點(diǎn)子，印刷，塑膠，玻璃，涂裝等領(lǐng)域。 P5 6B~M _
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紫外線清洗是是利用有機(jī)化合物的光敏氧化作用達(dá)到去除附著在材料表面的有機(jī)物質(zhì)。經(jīng)過廣清洗后的材料表面可以達(dá)到高清潔度。 R5KOai!
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其主要原理為紫外線燈發(fā)出的 185nm波長和254nm波長具有很高的能量，高于大多數(shù)有機(jī)物的結(jié)合能量。由于大多數(shù)碳?xì)浠衔飳?duì)185nm波長的紫外線具有較強(qiáng)的吸收能力，并且可以在吸收185nm波長后分解成例子，流利態(tài)院子，受激分子和中子等，這就是光敏作用�？諝庵械难醴肿釉谖樟�185nm波長的紫外光后，會(huì)產(chǎn)生臭氧和氧氣，臭氧對(duì)254nm波長具有很強(qiáng)的吸收性，臭氧有可以分解為氧原子和氧氣。氧原子具有極強(qiáng)的氧化性，可以將碳?xì)浠湘I切斷，生成水，二氧化碳等易揮發(fā)氣體，從被照射物表面飄逸出，徹底清除物體表面的污染物。這就是紫外線清洗的原理。 <jwQ&fm)/R
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清洗法有干洗和濕洗兩種。干洗有UV臭氧清洗，等離子清洗，離子清洗等。濕洗有水洗，堿清洗，酸清洗，液體噴射清洗等。我們?nèi)粘Ｋ煜さ臐袷角逑从锌梢郧逑吹糨^大范圍污染的優(yōu)點(diǎn)。但是也會(huì)有清洗不掉的污染。同時(shí)由于清洗的溶劑會(huì)在被清洗物表面殘留，因此對(duì)于高精密世界來說也是個(gè)污染。 gFQ\zOlY8a
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與此相反UV紫外線清洗雖然不能清洗掉大范圍的污染，卻可以清洗到各個(gè)角落的就是光洗凈技術(shù)（以下簡(jiǎn)稱UV臭氧清洗）。在納米技術(shù)世界里，我們雖然看不到有機(jī)性污染，但是有機(jī)污染在表面形成膜（軟接著層）如果在這層膜上印刷的話，就會(huì)出現(xiàn)鮮度惡化以及針孔等障礙。UV臭氧清洗可以去除的污染有有機(jī)化合物以及含有油脂的污染等。 %/:0x:ns
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2.二次污染的注意 ><Awk~KR
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玻璃表面的有機(jī)性污染膜厚度在單分子層以下時(shí)是非常清潔的表面狀態(tài)。即便是在實(shí)驗(yàn)室或這是無菌室里的大氣中也會(huì)有微量的揮發(fā)性有機(jī)化合物或者硫化合物，將洗凈玻璃放置于這種環(huán)境下也會(huì)被這些蒸汽污染。高度清洗過后的表面接觸角會(huì)在30分到1小時(shí)內(nèi)恢復(fù)到20度。因此我們認(rèn)為超高清潔玻璃不易長時(shí)間保存。 q@(MD3OE
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3.可以將粒子極限清洗的清洗工藝 j2GTo~muq
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UV臭氧清洗和濕式清洗的結(jié)合 ZCC T
UV臭氧清洗是使有機(jī)性污染膜清洗到單分子層以下的高清洗技術(shù)，如下圖所示在完成清洗階段使用UV臭氧清洗技術(shù)。但是UV臭氧清洗對(duì)于粒子沒有效果。同時(shí)濕式清洗不能完全清除有機(jī)性污染，會(huì)保留幾個(gè)分子層厚度的油膜。被這些油墨所吸收的粒子在沖洗過程中很難被全部清洗掉。UV臭氧清洗是完成階段的清洗，在生產(chǎn)過程中我們發(fā)現(xiàn)了如下圖所示UV臭氧清洗后使用例如溫水沖洗的清洗工藝。UV臭氧清洗如圖所示油膜基本上都可以清除。在此之后使用純水沖洗可以將沒有油膜保護(hù)的粒子很容易的沖洗掉，得到?jīng)]有粒子，沒有有機(jī)污染物的高清潔面。 h q|I%>y
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這種技術(shù)方法不但在液晶顯示裝置的現(xiàn)場(chǎng)使用，在原版曝光和分光板的制造工程中也被大量使用。
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