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2011-05-09 09:24 |
衍射光學(xué)元件灰度掩模板激光制作系統(tǒng)研究.PDF
衍射光學(xué)元件灰度掩模板激光制作系統(tǒng)研究摘要： 根據(jù)灰度掩模的制作理論， 提 出了由PP8000膠片輸出儀、 遠(yuǎn)心成像透鏡組、 平行準(zhǔn)直He-Cd激光器構(gòu)成的精縮投影曝光灰度掩模制作系統(tǒng)。 通過灰度掩模平面不同位置處提供可變的透過率，經(jīng)一次光刻后得到所需的衍射光學(xué)元件。該系統(tǒng)不僅可采用黑白膠片制作高分辨率灰度掩模板， 還可根據(jù)彩色灰度等效理論，利用彩 色等效膠片實(shí)現(xiàn)256灰度級的擴(kuò)展細(xì)分，以進(jìn)一步提高灰度 g* %bzfk=|
掩模板制作的分辨率。對于 1 6臺階灰度掩模，其分辨率可以從0~255擴(kuò)展到0~1280灰度級。利用該系統(tǒng)給出了二元光柵精縮后的感光圖片。 OMl8 a B9
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關(guān)鍵詞：衍射光學(xué)元件；灰度掩模；激光曝光；激光光刻系統(tǒng)
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