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光行天下 -> 光學(xué)薄膜設(shè)計(jì),工藝與設(shè)備 -> 在反應(yīng)濺射鋁的過(guò)程中的打弧問(wèn)題 [點(diǎn)此返回論壇查看本帖完整版本]

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余登峰	2011-11-27 13:43
在反應(yīng)濺射鋁的過(guò)程中的打弧問(wèn)題在反應(yīng)濺射鋁的過(guò)程中的打弧問(wèn)題，看到的共享一下。

zmfu77	2011-12-16 14:14
如果采用的是直流磁控濺射設(shè)備，應(yīng)該有以下幾個(gè)原因： ^AoX\|R[1% 1、靶的兩端污染嚴(yán)重，導(dǎo)電性能差，積累大量電荷，造成對(duì)真空腔體放電打火。 ^,`]Q)P^ 2、靶表面污染或有氧化層 G[{Av5g mx 3、靶的兩端有清微漏水、漏氣的情況 .dwbJT 4、電源滅弧性能差

guangbao	2014-03-09 23:28
看看隱藏了什么？ lWBewnLKE

caiqiwen	2014-11-06 21:55
回復(fù)看一下附件

光跡	2020-08-20 11:55
隱藏的是什么

嚶?lián)糸L(zhǎng)空	2024-05-31 08:21
反應(yīng)濺射鍍鋁是加氧鍍氧化鋁嗎 j' b0sve\|?

xiezhizhi	2024-06-01 15:48
一樣的 [I7=]X

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