ka2012 |
2012-11-05 22:59 |
非成像光學(xué)的邊緣光線原理
非成像 光學(xué)的邊緣光線原理說明,從光源到目標(biāo)邊緣的邊緣光線映射能夠應(yīng)用到非成像器件的設(shè)計。然而,在大多數(shù)的非成像反射器,包括復(fù)合拋物面聚焦器(CPC),至少部分輻射光經(jīng)過多次反射,一些光線甚至出現(xiàn)被多次反射,最后的檢測揭示光源的一些邊緣光線沒有映射到目標(biāo)邊緣上,盡管這個CPC在二維空間是理想的。使用一個拓?fù)涞姆椒ǎ覀兏纳屏诉吘壒饩原理的公式,來確保對所有的情況都是正確的。我們提出兩種一般原理的不同版本。第一種涉及到不同區(qū)域的邊界與不同數(shù)目的反射器相一致。第二個版本用僅有的單一反射器來說明,但是它涉及到了一個增加的輔助相位空間。我們討論邊緣光線原理作為一個非成像器件的設(shè)計程序的使用。CPC用來說明論據(jù)的每個部分。
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