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2013-06-10 22:56 |
討論模仁拋光的主要工藝因素
近階段研制精密研磨機，擬用于塑膠鏡片模仁的拋光。研制的過程中，琢磨過拋光的主要工藝因素，記敘如下： @D[tljc^
㈠ 拋光速度 W5*Kq^6Pd
光學冷加工行業(yè)內(nèi)有一觀念：高速拋光高效，表面品質(zhì)一般；低速拋光低效，但可獲得高品質(zhì)表面。于是，從機床到工藝便有了“高拋”“低拋”的區(qū)分。 eG_@WLxwD
“睽而知其類，異而知其通。”能溝通高拋低拋二種工藝的是什么因素？當然是速度。當其他工藝因素適當配合時，高拋高效低拋低效無疑是對的，問題是：高拋則表面品質(zhì)一般，低拋則能加工出高品質(zhì)的表面，這一條能成為鐵律嗎？ m{gw:69h
誠然，一直以來，要加工精準面形且表面疵病等級高的光學元件總是采用低拋工藝，當拋光高精度平面用分離器時，擺速極慢，主軸轉(zhuǎn)速往往也只有一二十轉(zhuǎn)甚至更低。 m OC<a7#
實際上，在光學冷加工以外的研磨領(lǐng)域總能看到這樣的情形：高轉(zhuǎn)速能加工出光滑表面。如金相拋光，轉(zhuǎn)速約1000轉(zhuǎn)；又如磨頭拋光，轉(zhuǎn)速幾千轉(zhuǎn)甚至上萬轉(zhuǎn)，按光學冷加工的區(qū)分標準，都屬高拋。顯然，反倒是高拋更容易加工出光滑表面。光學冷加工行業(yè)所以沒有象機械行業(yè)那樣追求高轉(zhuǎn)速，一方面受到面形和表面疵病質(zhì)量指標的約束，當機床性能不配合時，如面形有跳動，機床有振動等等，轉(zhuǎn)速就受到限制；另一方面，光學元件的驗收標準，只要感觀上達到鏡面就行，絕大多數(shù)情況下不會去檢測鏡面的微觀粗糙度。所以，高轉(zhuǎn)速反而成了“吃力不討好”的事情（當追求效率時除外）。對此，我們不妨作進一步的追問：既便在不追求加工效率的前提下，高轉(zhuǎn)速到底有沒有意義？回答當然是肯定的：只有高轉(zhuǎn)速才有可能獲得超光滑表面。光學冷加工的現(xiàn)狀不檢測表面粗糙度是一回事，不同的研磨速度一定會影響被加工件的表面粗糙度又是另一回事。至于兩者之間的對應關(guān)系，有條件的業(yè)內(nèi)人士可以去做個測試，如果有數(shù)據(jù)能證明研磨速度與表面粗糙度Ra之間有可靠的負相關(guān)關(guān)系，那么，提高研磨速度便可成為光學冷加工努力的方向，沿著這個方向，高速拋光不僅能實現(xiàn)高效率，同時還可能獲得超光滑表面，進而可以提升光學儀器的成像質(zhì)量。 eae
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