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光行天下 -> 光學(xué)薄膜設(shè)計(jì),工藝與設(shè)備 -> 冷卻水對(duì)晶控的影響 [點(diǎn)此返回論壇查看本帖完整版本] [打印本頁]

liyungang 2014-02-10 10:20

冷卻水對(duì)晶控的影響

各位,冷卻水對(duì)晶控有多大影響,討論下。
morningtech 2014-02-13 18:59
對(duì)于AT切割晶振片,冷卻水溫度一般在20幾度。 ui-]%~  
正常流量情況下, _SkiO }c8  
冷卻水溫度過低, 則晶振片上膜層應(yīng)力大,不利于鍍厚膜。 i(;.Y  
冷卻水溫度過高,雖可鍍膜厚增加,但晶振片溫度高,導(dǎo)致進(jìn)入較大的溫度頻率效應(yīng)區(qū)域,厚度精度將下降。 L={\U3 __k  
Cm]\5}Py  
上海膜林科技有限公司的XDM-3K晶控儀能實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)晶振片的損耗,膜層應(yīng)力對(duì)此值影響較大。 `q`ah_  
另一方面,XDM-3K有額外付費(fèi)的厚度補(bǔ)償功能,正是為了補(bǔ)償溫度效應(yīng)帶來的厚度計(jì)算偏差。 W>qu~ak?x  
sgh920 2014-02-18 12:58
morningtech:對(duì)于AT切割晶振片,冷卻水溫度一般在20幾度。 R*D5n>~  
正常流量情況下, U|{