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光學(xué)薄膜設(shè)計(jì),工藝與設(shè)備
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抗反射膜400nm~1100nm範(fàn)圍內(nèi)反射率皆需小於0.4%.
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danieltsai06
2015-01-29 09:44
抗反射膜400nm~1100nm範(fàn)圍內(nèi)反射率皆需小於0.4%.
求薄膜設(shè)計(jì)高手:
ysnW3q!@
抗反射膜400nm~1100nm範(fàn)圍內(nèi)反射率皆需小於0.4%.
Nh\vWAz9
建議材料SiO2與Nb2O5, 鍍?cè)诓AЩ迳稀?span style="display:none"> 7uR;S:WX
這個(gè)要求有可能嗎?
"0eX/rY%
華麗的轉(zhuǎn)身
2015-01-29 23:13
求解,等待中。
jiangguang
2015-03-03 10:49
沒(méi)設(shè)計(jì)出來(lái)
cym123
2015-07-07 00:01
我來(lái)支持下吧
鍍膜機(jī)操作員
2015-07-07 12:56
那個(gè)大神可以設(shè)計(jì)下來(lái)看看!
yeslao
2015-10-01 16:27
可以達(dá)到
聶凱
2015-11-16 16:43
這個(gè)不太可能吧!設(shè)計(jì)一下也就是在0.6%左右徘徊。誰(shuí)能達(dá)到 分享一下
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抗反射膜400nm~1100nm範(fàn)圍內(nèi)反射率皆需小於0.4%.
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