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2016-12-26 15:05 |
離子束濺射制備低應(yīng)力深紫外光學(xué)薄膜
摘要：采用離子束濺射制備了AlF3、GdF3單層膜及193 nm減反和高反膜系，分別使用分光光度計(jì)、原子力顯微鏡和應(yīng)力儀研究了薄膜的光學(xué)特性、微觀結(jié)構(gòu)以及殘余應(yīng)力。在優(yōu)選的沉積參數(shù)下制備出消光系數(shù)分別為1.1×10-4和3.0×10-4的低損耗AlF3和GdF3薄膜，對應(yīng)的折射率分別為1.43和1.67，193 nm減反膜系的透過率為99.6%，剩余反射幾乎為零，而高反膜系的反射率為99.2%，透過率為0.1%。應(yīng)力測量結(jié)果表明，AlF3薄膜表現(xiàn)為張應(yīng)力而GdF3薄膜具有壓應(yīng)力，與沉積條件相關(guān)的低生長應(yīng)力是AlF3和GdF3薄膜殘余應(yīng)力較小的主要原因，采用這兩種材料制備的減反及高反膜系應(yīng)力均低于50 MPa。針對平面和曲率半徑為240 mm的凸面元件，通過設(shè)計(jì)修正擋板，250 mm口徑膜厚均勻性均優(yōu)于97%。為亞納米精度的平面元件鍍制193 nm減反膜系，鍍膜后RMS由0.177 nm變?yōu)?.219 nm。 -NDB.~E^DJ
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