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  • 光學(xué)玻璃光學(xué)均勻性高精度測量技術(shù)

    作者:佚名 來源:網(wǎng)絡(luò)轉(zhuǎn)載 時間:2011-10-12 16:25 閱讀:2591 [投稿]
    高質(zhì)量的透射光學(xué)系統(tǒng)對光學(xué)材料的光學(xué)均勻性要求非常高,材料局部折射率10-6量級的變化就可能破壞整個系統(tǒng)的性能。詳細(xì)介紹了三種用于測量光學(xué)玻璃光學(xué)均勻性的干涉法,研制了一臺高精度光學(xué)玻璃材料光學(xué)均勻性測量儀。

    摘要:高質(zhì)量的透射光學(xué)系統(tǒng)對光學(xué)材料的光學(xué)均勻性要求非常高,材料局部折射率10-6量級的變化就可能破壞整個系統(tǒng)的性能。詳細(xì)介紹了三種用于測量光學(xué)玻璃光學(xué)均勻性的干涉法,研制了一臺高精度光學(xué)玻璃材料光學(xué)均勻性測量儀。實驗結(jié)果表明:40mm左右厚的光學(xué)玻璃材料的光學(xué)均勻性檢測精度可達(dá)1×10-6。

    關(guān)鍵詞:環(huán)行浮動拋光技術(shù);工藝實驗;透射波前;反射波前

    中圖分類號:TH706

    文獻(xiàn)標(biāo)識:A

    High accuracy testing method of the homogeneity of optical glass

    GUO Pei-ji, YU Jing-chi, DING Zhe-zao, SHUN Xia-fei

       (Institute of Modern Optical Technology, Soochow University, Suzhou 215006, China)

    Abstract:In high quality refractive optical system the homogeneity of optical components is rather high. Local changes in the refractive index of the order of 10-6 will detect the adequate performance of the whole system. In this paper, we describe three optical interference methods to measure the homogeneity of optical glass, a high accuracy apparatus for testing the homogeneity of optical glass is developed, and the test result shows the measurement error is less than 1×10-6.

    Key word:homogeneity of optical glass; testing; high accuracy

    1 引 言

    光學(xué)玻璃比普通工業(yè)玻璃的質(zhì)量要求高。光學(xué)玻璃的質(zhì)量檢驗包括光學(xué)性能和光學(xué)質(zhì)量的檢驗和測試。光學(xué)性能包括折射率和色散等光學(xué)常數(shù)。光學(xué)玻璃質(zhì)量是指熔制和退火過程中的各種缺陷的大小,包括光學(xué)玻璃的光學(xué)均勻性、應(yīng)力雙折射、條紋、氣泡和由雜質(zhì)引起的光吸收等。光學(xué)玻璃的光學(xué)均勻性是指同一塊光學(xué)玻璃內(nèi)部的折射率的不一致性,常用其內(nèi)部的折射率的最大差值表示。光學(xué)玻璃的光學(xué)均勻性是非常重要的玻璃質(zhì)量標(biāo)準(zhǔn),因為它直接影響透射光學(xué)系統(tǒng)的波面質(zhì)量,改變系統(tǒng)的波像差。隨著現(xiàn)代科學(xué)技術(shù)和國防事業(yè)的發(fā)展,對一些透射光學(xué)系統(tǒng)的成像質(zhì)量要求越來越高,迫切需要有高精度的光學(xué)玻璃光學(xué)均勻性的檢測手段,而現(xiàn)在國內(nèi)的光學(xué)材料生產(chǎn)廠家都沒有合適的手段來檢測這種高要求的玻璃材料。光學(xué)玻璃的光學(xué)均勻性檢測有定性和定量兩類方法,高精度的檢測方法主要是定量檢測波像差的干涉儀。

    2 三種干涉測量法

    2.1 直接測量法[ 1,2,3]

    如圖1所示,把被檢測的樣品玻璃置于斐索干涉儀的參考平面和一標(biāo)準(zhǔn)平面中間,從標(biāo)準(zhǔn)平面反射的光與參考平面反射的光相干涉。如果樣品的表面面形是理想的,檢測得到的波面質(zhì)量就反映了樣品玻璃的光學(xué)不均勻性。

    如令樣品的光學(xué)不均勻性為△n,檢測得到的波相差為ω(x,y),樣品厚度為t,則

    △n=ω(x,y)/(2t) (1)

    從理論上來說,直接干涉測量法測量光學(xué)均勻性的精度較高,但它要求樣品表面質(zhì)量也很高。如果要檢測的光學(xué)均勻性的精度為1×10-6,那么對30mm厚的樣品來說,系統(tǒng)的誤差(PV值)應(yīng)小于0.047λ,于是每個面的面形精度都得在λ/25左右。即使是厚度為100mm樣品,如果要求檢測精度達(dá)到1×10-6,每個面的面形精度也需達(dá)到λ/10左右。為避免經(jīng)常加工高精度的平面,可以精制兩塊平板作貼置玻璃,檢測時在樣品的表面涂敷折射率與樣品的折射率相差不多的折射液,再把樣品夾在兩貼置玻璃中間。 也可以用別的干涉儀如泰曼-格林干涉儀、馬赫-澤得干涉儀、剪切干涉儀、刀口干涉儀等來直接測量樣品的光學(xué)均勻性。圖2是一種檢測樣品的光學(xué)均勻性的平板剪切干涉儀示意圖。

    2.2 樣品翻轉(zhuǎn)法[ 2 ]

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