光學(xué)玻璃光學(xué)均勻性高精度測(cè)量技術(shù)
高質(zhì)量的透射光學(xué)系統(tǒng)對(duì)光學(xué)材料的光學(xué)均勻性要求非常高,材料局部折射率10-6量級(jí)的變化就可能破壞整個(gè)系統(tǒng)的性能。詳細(xì)介紹了三種用于測(cè)量光學(xué)玻璃光學(xué)均勻性的干涉法,研制了一臺(tái)高精度光學(xué)玻璃材料光學(xué)均勻性測(cè)量?jī)x。
摘要:高質(zhì)量的透射光學(xué)系統(tǒng)對(duì)光學(xué)材料的光學(xué)均勻性要求非常高,材料局部折射率10-6量級(jí)的變化就可能破壞整個(gè)系統(tǒng)的性能。詳細(xì)介紹了三種用于測(cè)量光學(xué)玻璃光學(xué)均勻性的干涉法,研制了一臺(tái)高精度光學(xué)玻璃材料光學(xué)均勻性測(cè)量?jī)x。實(shí)驗(yàn)結(jié)果表明:40mm左右厚的光學(xué)玻璃材料的光學(xué)均勻性檢測(cè)精度可達(dá)1×10-6。 關(guān)鍵詞:環(huán)行浮動(dòng)拋光技術(shù);工藝實(shí)驗(yàn);透射波前;反射波前 中圖分類號(hào):TH706 文獻(xiàn)標(biāo)識(shí):A High accuracy testing method of the homogeneity of optical glass GUO Pei-ji, YU Jing-chi, DING Zhe-zao, SHUN Xia-fei (Institute of Modern Optical Technology, Soochow University, Suzhou 215006, China) Abstract:In high quality refractive optical system the homogeneity of optical components is rather high. Local changes in the refractive index of the order of 10-6 will detect the adequate performance of the whole system. In this paper, we describe three optical interference methods to measure the homogeneity of optical glass, a high accuracy apparatus for testing the homogeneity of optical glass is developed, and the test result shows the measurement error is less than 1×10-6. Key word:homogeneity of optical glass; testing; high accuracy 1 引 言 光學(xué)玻璃比普通工業(yè)玻璃的質(zhì)量要求高。光學(xué)玻璃的質(zhì)量檢驗(yàn)包括光學(xué)性能和光學(xué)質(zhì)量的檢驗(yàn)和測(cè)試。光學(xué)性能包括折射率和色散等光學(xué)常數(shù)。光學(xué)玻璃質(zhì)量是指熔制和退火過程中的各種缺陷的大小,包括光學(xué)玻璃的光學(xué)均勻性、應(yīng)力雙折射、條紋、氣泡和由雜質(zhì)引起的光吸收等。光學(xué)玻璃的光學(xué)均勻性是指同一塊光學(xué)玻璃內(nèi)部的折射率的不一致性,常用其內(nèi)部的折射率的最大差值表示。光學(xué)玻璃的光學(xué)均勻性是非常重要的玻璃質(zhì)量標(biāo)準(zhǔn),因?yàn)樗苯佑绊懲干涔鈱W(xué)系統(tǒng)的波面質(zhì)量,改變系統(tǒng)的波像差。隨著現(xiàn)代科學(xué)技術(shù)和國防事業(yè)的發(fā)展,對(duì)一些透射光學(xué)系統(tǒng)的成像質(zhì)量要求越來越高,迫切需要有高精度的光學(xué)玻璃光學(xué)均勻性的檢測(cè)手段,而現(xiàn)在國內(nèi)的光學(xué)材料生產(chǎn)廠家都沒有合適的手段來檢測(cè)這種高要求的玻璃材料。光學(xué)玻璃的光學(xué)均勻性檢測(cè)有定性和定量?jī)深惙椒,高精度的檢測(cè)方法主要是定量檢測(cè)波像差的干涉儀。 2 三種干涉測(cè)量法 2.1 直接測(cè)量法[ 1,2,3] 如圖1所示,把被檢測(cè)的樣品玻璃置于斐索干涉儀的參考平面和一標(biāo)準(zhǔn)平面中間,從標(biāo)準(zhǔn)平面反射的光與參考平面反射的光相干涉。如果樣品的表面面形是理想的,檢測(cè)得到的波面質(zhì)量就反映了樣品玻璃的光學(xué)不均勻性。 如令樣品的光學(xué)不均勻性為△n,檢測(cè)得到的波相差為ω(x,y),樣品厚度為t,則 △n=ω(x,y)/(2t) (1) 從理論上來說,直接干涉測(cè)量法測(cè)量光學(xué)均勻性的精度較高,但它要求樣品表面質(zhì)量也很高。如果要檢測(cè)的光學(xué)均勻性的精度為1×10-6,那么對(duì)30mm厚的樣品來說,系統(tǒng)的誤差(PV值)應(yīng)小于0.047λ,于是每個(gè)面的面形精度都得在λ/25左右。即使是厚度為100mm樣品,如果要求檢測(cè)精度達(dá)到1×10-6,每個(gè)面的面形精度也需達(dá)到λ/10左右。為避免經(jīng)常加工高精度的平面,可以精制兩塊平板作貼置玻璃,檢測(cè)時(shí)在樣品的表面涂敷折射率與樣品的折射率相差不多的折射液,再把樣品夾在兩貼置玻璃中間。 也可以用別的干涉儀如泰曼-格林干涉儀、馬赫-澤得干涉儀、剪切干涉儀、刀口干涉儀等來直接測(cè)量樣品的光學(xué)均勻性。圖2是一種檢測(cè)樣品的光學(xué)均勻性的平板剪切干涉儀示意圖。 2.2 樣品翻轉(zhuǎn)法[ 2 ] |
1.行業(yè)新聞、市場(chǎng)分析。 2.新品新技術(shù)(最新研發(fā)出來的產(chǎn)品技術(shù)介紹,包括產(chǎn)品性能參數(shù)、作用、應(yīng)用領(lǐng)域及圖片); 3.解決方案/專業(yè)論文(針對(duì)問題及需求,提出一個(gè)解決問題的執(zhí)行方案); 4.技術(shù)文章、白皮書,光學(xué)軟件運(yùn)用技術(shù)(光電行業(yè)內(nèi)技術(shù)文檔);
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