ZEMAX OpticStudio 18.1新版本已發(fā)布,搶先體驗!目錄 1 工具與分析 1.1 將多重結(jié)構(gòu)轉(zhuǎn)換為非序列模式(專業(yè)版和旗艦版) 1.2 將公差數(shù)據(jù)轉(zhuǎn)換為非序列模式(專業(yè)版和旗艦版) 1.3 增加物理光學(xué)傳播的采樣密度(專業(yè)版和旗艦版) 1.4 測試新的實驗功能(所有版本) 2 可用性 2.1 右擊忽略并隱藏非序列模式中的物體(專業(yè)版和旗艦版) 2.2 保存和加載優(yōu)化器設(shè)置(所有版本) 2.3 繪制以自動比例縮放的視場圖(所有版本) 2.4 將存檔文件提取到源文件夾中(所有版本) 2.5 對比存檔文件內(nèi)容(所有版本) 2.6 在分類數(shù)據(jù)報告中查看光線傳輸矩陣ABCD(所有版本) 3 編程 3.1 使用ZOS-API運行序列模式中的工具(專業(yè)版和旗艦版) 3.2 修改了ZOS-API中的參考(專業(yè)版和旗艦版) 3.3 使用ZRD Reader獲得更多光線數(shù)據(jù)(專業(yè)版和旗艦版) 4 數(shù)據(jù)庫與目錄 4.1 材料庫(所有版本) 4.2 膜層(所有版本) 4.3 光源模型(旗艦版) 4.4 Radiant光源模型(旗艦版) 4.5 樣板(所有版本) 4.6 庫存鏡頭(所有版本) 4.7 硬件密匙驅(qū)動程序(所有版本) 5 錯誤修正 6 已知問題 1. 工具與分析1.1 將多重結(jié)構(gòu)轉(zhuǎn)換為非序列模式(專業(yè)版和旗艦版) 將所有序列模式結(jié)構(gòu)轉(zhuǎn)換成一個非序列文件,使工作更有效 新版本中轉(zhuǎn)換為NSC組工具支持轉(zhuǎn)換序列模式多重結(jié)構(gòu)編輯器(MCE)中的操作數(shù)。在以前的OpticStudio版本中,轉(zhuǎn)換為非序列模式時不保留MCE操作數(shù)。新版本中轉(zhuǎn)換為NSC組工具會自動將序列模式中的每個MCE操作數(shù)轉(zhuǎn)換為其等效的非序列操作數(shù)。 在文件選項卡的轉(zhuǎn)換文件菜單中可以找到轉(zhuǎn)換為NSC組工具。 圖 文件選項卡中的轉(zhuǎn)換為NSC組工具 在設(shè)置選項卡的結(jié)構(gòu)菜單中可以找到多重結(jié)構(gòu)編輯器和相關(guān)工具: 圖 設(shè)置選項卡中的結(jié)構(gòu)菜單 1.2 將公差數(shù)據(jù)轉(zhuǎn)換為非序列模式(專業(yè)版和旗艦版) 在非序列模式中保留序列公差設(shè)置進(jìn)行進(jìn)一步分析,確保設(shè)計連貫而準(zhǔn)確 新版本中轉(zhuǎn)換為NSC組工具支持轉(zhuǎn)換序列模式公差數(shù)據(jù)編輯器(TDE)中的操作數(shù)。在以前的OpticStudio版本中,轉(zhuǎn)換為非順序模式時不保留TDE操作數(shù)。新版本中轉(zhuǎn)換為NSC組工具會自動將序列模式中的每個TDE操作數(shù)轉(zhuǎn)換為其等效的非序列操作數(shù)。 在公差選項卡的公差分析菜單中可以找到公差數(shù)據(jù)編輯器: 圖 OpticStudio中的公差選項卡與公差數(shù)據(jù)編輯器按鈕 1.3 增加物理光學(xué)傳播的采樣密度(專業(yè)版和旗艦版) 通過高采樣的相干光束傳播獲取更多關(guān)于所模擬系統(tǒng)的信息 新版本中可以使用ZOS-API來顯著增加物理光學(xué)傳播(POP)分析的采樣設(shè)置。在OpticStudio用戶界面的POP設(shè)置中所允許的最高X和Y采樣是16,384,而使用ZOS-API所允許的最大采樣值是1,073,741,824。 在ZOS-API語法幫助中可以找到更多關(guān)于RunHighSamplingPOP類函數(shù)的信息。 圖 編程選項卡與ZOS-API幫助菜單 圖 在ZOS-API語法幫助中打開 RunHighSamplingPOP 1.4 測試新的實驗功能(所有版本) 預(yù)覽未來功能并幫給予反饋,幫助我們改善新工具 Zemax實驗室包含了一個新的實驗功能。值得注意的是,新功能可能在最終生效之前進(jìn)行更改,并且不會記錄在幫助文件中。 Zemax文件收集器能在故障診斷與排除或向Zemax技術(shù)支持上報一個可能的錯誤(bug)時自動收集打包所需的所有文件。此工具能夠?qū)ξ募邪臐撛诿舾行畔⑦M(jìn)行標(biāo)記并輕松移除。生成的ZIP文件可以保存及參考,或以電子郵件附件形式發(fā)送到support@zemax.com。 圖 Zemax文件收集器中的設(shè)置 在幫助選項卡的Zemax 實驗室菜單中可以找到實驗功能。 圖 幫助選項卡與實驗功能按鈕 2. 可用性 2.1 右擊忽略并隱藏非序列模式中的物體(專業(yè)版和旗艦版) 使用右鍵菜單中新的快捷鍵,可以更快速地設(shè)置非序列系統(tǒng) 在非序列組件編輯器(NSCE)中,只需一個步驟,選擇右鍵菜單中的忽略并隱藏物體選項就可同時忽略并隱藏非序列組件編輯器中的物體。反之,也可以使用考慮并顯示物體選項來考慮和顯示對象。 2.2 保存和加載優(yōu)化器設(shè)置(所有版本) 確保使用自定義優(yōu)化設(shè)置時的一致性 新版本中用戶能在所有優(yōu)化窗口中保存設(shè)置、加載過去已保存的設(shè)置,或者重置為默認(rèn)設(shè)置?梢栽诓煌膬(yōu)化過程中對優(yōu)化設(shè)置進(jìn)行自定義、保存以及加載。 圖 局部優(yōu)化窗口中,新的保存、加載和重置按鈕 在局部優(yōu)化、全局優(yōu)化和錘形優(yōu)化窗口中添加了保存、加載和重置按鈕。保存按鈕將當(dāng)前設(shè)置保存到OpticStudio配置文件中,加載按鈕將加載最后保存的設(shè)置,重置按鈕將所有設(shè)置重置為默認(rèn)設(shè)置。 需要注意的是:優(yōu)化窗口將會保存優(yōu)化過程中使用的最后一次設(shè)置。如果更改優(yōu)化設(shè)置并運行優(yōu)化,然后關(guān)閉該優(yōu)化窗口并重新打開,新的窗口將使用最后一次用到的設(shè)置。要再次使用任何已存的設(shè)置則必須通過重新加載設(shè)置。 在優(yōu)化選項卡中可以找到局部、全局和錘形優(yōu)化器。 圖 包含了局部、全局、錘形優(yōu)化器的優(yōu)化選項卡 2.3 繪制以自動比例縮放的視場圖(所有版本) 快速定義視場分布以充分采樣所需視場 現(xiàn)在視場數(shù)據(jù)編輯器(FDE)中的視場圖通過自動比例進(jìn)行縮放,確保已定義的所有視場都清晰可見。 圖 視場數(shù)據(jù)編輯器和以等面積徑向分布的視場圖 視場圖顯示的默認(rèn)縮放比例是最大視場的1.1倍。包含視場圖的視場編輯器可以在設(shè)置選項卡的編輯器菜單中找到。 圖 包含視場數(shù)據(jù)編輯器的設(shè)置選項卡 2.4 將存檔文件提取到源文件夾中(所有版本) 從ZAR文件中提取OpticStudio文件并一鍵保存到目標(biāo)路徑中 還原Zemax檔案文件(ZAR)窗口現(xiàn)在添加了新的保存路徑按鈕,能夠?qū)⑻崛〕龅奈募4娴脚c源文件相同的路徑中。 圖 還原Zemax檔案文件(ZAR)窗口中的同文件路徑按鈕 在文件選項卡中點擊加載存檔文件來打開還原Zemax 檔案文件窗口,在此窗口中選擇同文件路徑選項,將設(shè)置文件提取的目標(biāo)路徑為源ZAR文件的上一級目錄。 圖 包含加載存檔文件按鈕的文件選項卡 2.5 對比存檔文件內(nèi)容(所有版本) 分享給同事OpticStudio文件并輕松識別更改的內(nèi)容 新版本的還原Zemax 檔案文件(ZAR)窗口中添加了提示不同這一設(shè)置,新的文件提取設(shè)置能將ZAR中的文件和已有的OpticStudio文件進(jìn)行對比。 圖 還原Zemax存檔文件窗口中的提示不同設(shè)置 提示不同這一設(shè)置能對ZAR中的文件和已有的OpticStudio文件進(jìn)行對比。如果ZAR中的新文件與現(xiàn)有文件相同,OpticStudio使用現(xiàn)有文件。如果沒有相同的文件,OpticStudio提示用戶在新文件或現(xiàn)有文件之間進(jìn)行選擇。 在文件選項卡中點擊加載存檔文件來打開還原Zemax 檔案文件窗口。 2.6 在分類數(shù)據(jù)報告中查看光線傳輸矩陣ABCD(所有版本) 方便地查看系統(tǒng)的ABCD矩陣 用戶在新版本分類數(shù)據(jù)報告的通用數(shù)據(jù)中查看光線傳輸矩陣的ABCD值。在以前的版本中,只能在網(wǎng)格畸變分析窗口的文本框中找到ABCD值。 圖 分別在網(wǎng)格畸變分析窗口的文本框中和分類數(shù)據(jù)報告通用數(shù)據(jù)中顯示的ABCD光線傳輸矩陣中的預(yù)測值 矩陣ABCD的值是使用主波長和軸上視場(x=y=0)計算得到的。從分析選項卡中可以找到分類數(shù)據(jù)報告選項。 圖 從分析選項卡中找到分類數(shù)據(jù)報告 3. 編程 3.1 使用ZOS-API運行序列模式中的工具(專業(yè)版和旗艦版) 通過ZOS-API自動進(jìn)行重復(fù)性操作及創(chuàng)建新的校準(zhǔn)過程。 新版本中ZOS-API能夠調(diào)用OpticStudio中的序列工具來完成鏡頭數(shù)據(jù)編輯器(LDE)中的添加和刪除反射鏡,翻轉(zhuǎn)元件,按焦距縮放,生成雙通系統(tǒng)的操作。 圖 序列模式鏡頭數(shù)據(jù)編輯器中包含的添加/刪除反射鏡,翻轉(zhuǎn)元件,按焦距縮放,生成雙通系統(tǒng)工具 新版本中ZOS-API包含了鏡頭數(shù)據(jù)編輯器的上述工具,具體包括: • 添加反射鏡 • 刪除反射鏡 • 翻轉(zhuǎn)元件 • 按焦距縮放 • 生成雙通系統(tǒng) 關(guān)于這些工具的詳細(xì)信息,查看ZOS-API語法幫助。 圖 ZOS-API語法幫助對話框中打開RunTool_DeleteFoldMirror 3.2 修改了ZOS-API中的參考(專業(yè)版和旗艦版) 使用ZOS-API自定義設(shè)置和配置選項 新版本中ZOS-API可以更改設(shè)置選項卡中的配置選項。 圖 配置選項對話框中的常規(guī)選項 關(guān)于這些工具的詳細(xì)信息,請查看ZOS-API語法幫助。 圖 ZOS-API語法幫助中打開了General.DateTimeFormat 3.3 使用ZRD READER獲得更多光線數(shù)據(jù)(專業(yè)版和旗艦版) 通過ZOS-API來分析更多光線追跡細(xì)節(jié) ZOS-API中讀取Zemax光線數(shù)據(jù)(ZRD)的函數(shù)為IZRDReader,新版本中使用IZRDReader能獲得非序列光線追跡計算得到的所有追光信息。 圖 ZOS-API語法幫助中打開了Tools.RayTrace.IZRDReader 使用IZRDReader能調(diào)用以下信息: • 光線狀態(tài):終止,反射,折射,散射,衍射,鬼像,衍射,面散射,體散射 • 光線分段數(shù)目 • 與光線相交的物體序號 • 與光線相交的面序號 • 光線在第幾個物體中傳播 • 前一段光線的分段序號 • 某光線到達(dá)探測器的像素序號 • 介質(zhì)的折射率 • 初始光程 • 光線交點的全局坐標(biāo) • 光線的全局坐標(biāo)余弦 • 光線與物體交點處物體全局法矢量 • 分段光線的物理光程(距離非光程) • 由物體增加的相位光程 • 光線累加的總光學(xué)相位 • 全局x,y,z坐標(biāo)中的電場強(qiáng)度(實部與虛部) 關(guān)于這些工具的詳細(xì)信息,查看ZOS-API語法幫助。 4. 數(shù)據(jù)庫與目錄 4.1 材料庫(所有版本) 更新了由Sumita、APEL、Ohara和AngstromLink提供的最新材料庫 更新的Sumita材料庫反映了材料命名規(guī)則,以“K-”前綴命名的玻璃,熱膨脹系數(shù)被定義,材料的有效波長擴(kuò)展為0.36~1.55μm;以“(M)”后綴命名的玻璃,其色散方程是玻璃經(jīng)過塑模成型后的數(shù)據(jù)。 在數(shù)據(jù)庫選項卡中可以找到材料庫這一選項。 圖 包含材料庫選項的數(shù)據(jù)庫選項卡 4.2 膜層(所有版本) 更新了Macleod最新膜層。 之前的Macleod膜層有0mm厚的不起作用的基底層,更新后的Macleod膜層移除了這一基底層。 圖 Essential Macleod膜層 在數(shù)據(jù)庫選項卡的中可以找到膜層工具和Macleod膜層。 圖 包含膜層目錄按鈕的數(shù)據(jù)庫選項卡 4.3 光源模型(旗艦版) 更新了OSRAM最新的IES光源模型目錄 更新后的OSRAM IES光源模型目錄包含了新的LEDs,并移除了停產(chǎn)的產(chǎn)品。新的目錄現(xiàn)在包含598個光源模型。 圖 OSRAM光源模型目錄 在數(shù)據(jù)庫選項卡中使用下載IES光源文件工具來下載IES光源模型。 圖 包含了下載IES光源文件工具的數(shù)據(jù)庫選項卡 4.4 RADIANT光源模型(旗艦版) 更新了Philips Lumileds Lighting Company和DOMINANT Opto Technologies的Radiant光源模型目錄 更新后的Philips Lumileds Lighting Company Radiant光源模型目錄包含了77種新的LUXEON型高功率LEDs。 更新后的DOMINANT Opto Technologies Radiant光源模型目錄包含了53種在生產(chǎn)產(chǎn)品的光源模型文件。 從Radiant光源模型庫中移除了OSRAM LEDs和Vishay Intertechnology兩個不再有效的目錄。 在數(shù)據(jù)庫選項卡中可以下載Radiant光源模型。 圖 包含下載RSMX光源模型工具的數(shù)據(jù)庫選項卡 4.5 樣板(所有版本) 更新了Wavelength Opto-Electronic和Rainbow Research Optics提供的套樣板列表文件 在安裝包中移除了Wavelength Opto-Electronic提供套樣板列表文件wavelength_singapore.tpd并添加了新的Wavelength Opto-Electronics (SG).tpd列表文件。 在安裝包中移除了Rainbow Research Optics提供套樣板列表文件Research.tpd并添加了新的RROITestPlates.tpd列表文件。 在數(shù)據(jù)庫選項卡的樣板列表中可以選擇列表文件。 圖 包含套樣板列表按鈕的數(shù)據(jù)庫選項卡 4.6 庫存鏡頭(所有版本) 更新了Daheng Optics的鏡頭庫 Daheng Optics鏡頭庫中包含302個鏡頭,其中更新了一些新的鏡頭并移除了過時廢棄的鏡頭。 圖 Daheng Optics庫存鏡頭 在數(shù)據(jù)庫選項卡中的鏡頭庫選項中查找鏡頭 圖 包含鏡頭庫按鈕的數(shù)據(jù)庫選項卡 4.7 硬件密匙驅(qū)動程序(所有版本) 更新了Sentinel硬件密匙驅(qū)動 這一部分內(nèi)容只適用于適用黑色USB Key的用戶。新的7.6.0版本的Sentinel System Driver可以與Windows的Credential Guard和Device Guard兼容。在設(shè)備管理器中查找更多與驅(qū)動版本相關(guān)的信息。 圖 設(shè)備管理器中的通用串行總線控制器顯示的Sentinel System Driver詳細(xì)信息 5. 錯誤修正 OpticStudio 18.1包含了以下性能提升與錯誤修正: a)工具 • 優(yōu)化——改進(jìn)了優(yōu)化算法使系統(tǒng)在一次優(yōu)化途中優(yōu)化器被終止的情形下也能進(jìn)行優(yōu)化。 • 公差分析——修正了多個補(bǔ)償器作用下的公差分析輸出結(jié)果中補(bǔ)償器統(tǒng)計值錯誤的問題。 b)序列模式表面與分析 • 光學(xué)制造全息表面——新版本中對光學(xué)制造全息表面進(jìn)行優(yōu)化時對變量的定義與以往不同,OpticStudio不再自動將構(gòu)造文件中的所有變量作為OFH表面優(yōu)化的一部分。與此相反,需要在再現(xiàn)文件中使用HLGV操作數(shù)來定義構(gòu)造文件中的哪一變量應(yīng)當(dāng)作為優(yōu)化OFH表面時的優(yōu)化變量。這樣的更改使用戶能夠完全的控制使用的變量,例如使用拾取求解類型將構(gòu)造文件中的變量關(guān)聯(lián)起來。為了實現(xiàn)更加容易的HLGV操作數(shù)的設(shè)置,在多重結(jié)構(gòu)編輯器工具欄中添加了新的全息變量工具。 • 波前圖——在OpticStudio17.5波前圖中出現(xiàn)的RMS波前差計算錯誤已經(jīng)被修正,在OpticStudio17.5中波前差的計算錯誤地使用了RMS vs. Fieldanalysis中的算法。 • 橢圓光柵表面——改進(jìn)了使用橢圓光柵面時的光線追跡算法,能更好地處理掠入射情形。 c)非序列模式分析 • 系統(tǒng)選項——系統(tǒng)選項中非序列模式部分定義了最大嵌套/接觸物體數(shù)目,實際計算過程使用的是定義值的兩倍,這一問題被修復(fù)了。現(xiàn)在打開使用舊版本保存的文件,系統(tǒng)選項中可顯示正確的值。 • 探測器查看器——在矩形探測器中使用的立體角的微小計算錯誤被修正。這一錯誤僅在探測器查看器上查看角度強(qiáng)度數(shù)據(jù),且光強(qiáng)有大的角度分布時存在。 • 近軸透鏡對象—— OpticStudio現(xiàn)在支持在非序列模式中定義近軸透鏡作為反射鏡。 d)編程 • Zemax編程語言(ZPL)——新版本ZPL中的LOADLENS關(guān)鍵字在開啟一個新的沒有session文件的文件時將不再關(guān)閉之前打開的分析窗口。 • ZOS-API ——修正了MATLAB交互擴(kuò)展樣板代碼中的一個打字錯誤,第80行中錯誤的讀取MXException(),現(xiàn)在被修正為讀取MException()。 6. 已知問題 OpticStudio 18.1包含一個已知問題: • 當(dāng)從服務(wù)器端的網(wǎng)絡(luò)許可中借走license離線使用時,在某些情形下客戶端電腦重啟電腦后,license可能會從客戶端電腦被移除。適用于:可能受影響的版本從OpticStudio17到OpticStudio18.1解決方案:這一問題目前已經(jīng)被我們的許可證廠商修復(fù),下一版的OpticStudio中也將包含解決問題的進(jìn)一步舉措。在下一版OpticStudio發(fā)布前為了解決該問題,用戶可以在客戶端電腦或安裝有軟Softkey的服務(wù)器電腦上升級Sentinel LDK runtime。通過查閱知識庫文章How toTroubleshoot Softkey License Issues中的許可證Check Out章節(jié)來獲取更多信息。 升級體驗最新版本請咨詢:15051868232 |