目錄

1 工具與分析

1.1 將多重結(jié)構(gòu)轉(zhuǎn)換為非序列模式（專業(yè)版和旗艦版）

1.2 將公差數(shù)據(jù)轉(zhuǎn)換為非序列模式（專業(yè)版和旗艦版）

1.3 增加物理光學(xué)傳播的采樣密度（專業(yè)版和旗艦版）

1.4 測(cè)試新的實(shí)驗(yàn)功能（所有版本）

2 可用性

2.1 右擊忽略并隱藏非序列模式中的物體（專業(yè)版和旗艦版）

2.2 保存和加載優(yōu)化器設(shè)置（所有版本）

2.3 繪制以自動(dòng)比例縮放的視場(chǎng)圖（所有版本）

2.4 將存檔文件提取到源文件夾中（所有版本）

2.5 對(duì)比存檔文件內(nèi)容（所有版本）

2.6 在分類數(shù)據(jù)報(bào)告中查看光線傳輸矩陣ABCD（所有版本）

3 編程

3.1 使用ZOS-API運(yùn)行序列模式中的工具（專業(yè)版和旗艦版）

3.2 修改了ZOS-API中的參考（專業(yè)版和旗艦版）

3.3 使用ZRD Reader獲得更多光線數(shù)據(jù)（專業(yè)版和旗艦版）

4 數(shù)據(jù)庫與目錄

4.1 材料庫（所有版本）

4.2 膜層（所有版本）

4.3 光源模型（旗艦版）

4.4 Radiant光源模型（旗艦版）

4.5 樣板（所有版本）

4.6 庫存鏡頭（所有版本）

4.7 硬件密匙驅(qū)動(dòng)程序（所有版本）

5 錯(cuò)誤修正

6 已知問題

1.1 將多重結(jié)構(gòu)轉(zhuǎn)換為非序列模式（專業(yè)版和旗艦版）

將所有序列模式結(jié)構(gòu)轉(zhuǎn)換成一個(gè)非序列文件，使工作更有效

新版本中轉(zhuǎn)換為NSC組工具支持轉(zhuǎn)換序列模式多重結(jié)構(gòu)編輯器（MCE）中的操作數(shù)。在以前的OpticStudio版本中，轉(zhuǎn)換為非序列模式時(shí)不保留MCE操作數(shù)。新版本中轉(zhuǎn)換為NSC組工具會(huì)自動(dòng)將序列模式中的每個(gè)MCE操作數(shù)轉(zhuǎn)換為其等效的非序列操作數(shù)。

在文件選項(xiàng)卡的轉(zhuǎn)換文件菜單中可以找到轉(zhuǎn)換為NSC組工具。

在設(shè)置選項(xiàng)卡的結(jié)構(gòu)菜單中可以找到多重結(jié)構(gòu)編輯器和相關(guān)工具：

1.2 將公差數(shù)據(jù)轉(zhuǎn)換為非序列模式（專業(yè)版和旗艦版）

在非序列模式中保留序列公差設(shè)置進(jìn)行進(jìn)一步分析，確保設(shè)計(jì)連貫而準(zhǔn)確

新版本中轉(zhuǎn)換為NSC組工具支持轉(zhuǎn)換序列模式公差數(shù)據(jù)編輯器(TDE)中的操作數(shù)。在以前的OpticStudio版本中，轉(zhuǎn)換為非順序模式時(shí)不保留TDE操作數(shù)。新版本中轉(zhuǎn)換為NSC組工具會(huì)自動(dòng)將序列模式中的每個(gè)TDE操作數(shù)轉(zhuǎn)換為其等效的非序列操作數(shù)。

在公差選項(xiàng)卡的公差分析菜單中可以找到公差數(shù)據(jù)編輯器：

1.3 增加物理光學(xué)傳播的采樣密度（專業(yè)版和旗艦版）

通過高采樣的相干光束傳播獲取更多關(guān)于所模擬系統(tǒng)的信息

新版本中可以使用ZOS-API來顯著增加物理光學(xué)傳播（POP）分析的采樣設(shè)置。在OpticStudio用戶界面的POP設(shè)置中所允許的最高X和Y采樣是16,384，而使用ZOS-API所允許的最大采樣值是1,073,741,824。

在ZOS-API語法幫助中可以找到更多關(guān)于RunHighSamplingPOP類函數(shù)的信息。

1.4 測(cè)試新的實(shí)驗(yàn)功能（所有版本）

預(yù)覽未來功能并幫給予反饋，幫助我們改善新工具

Zemax實(shí)驗(yàn)室包含了一個(gè)新的實(shí)驗(yàn)功能。值得注意的是，新功能可能在最終生效之前進(jìn)行更改，并且不會(huì)記錄在幫助文件中。 Zemax文件收集器能在故障診斷與排除或向Zemax技術(shù)支持上報(bào)一個(gè)可能的錯(cuò)誤（bug）時(shí)自動(dòng)收集打包所需的所有文件。此工具能夠?qū)ξ募�中包含的潛在敏感信息進(jìn)行標(biāo)記并輕松移除。生成的ZIP文件可以保存及參考，或以電子郵件附件形式發(fā)送到support@zemax.com。

在幫助選項(xiàng)卡的Zemax 實(shí)驗(yàn)室菜單中可以找到實(shí)驗(yàn)功能。

2. 可用性  

2.1 右擊忽略并隱藏非序列模式中的物體（專業(yè)版和旗艦版）

使用右鍵菜單中新的快捷鍵，可以更快速地設(shè)置非序列系統(tǒng)

在非序列組件編輯器（NSCE）中，只需一個(gè)步驟，選擇右鍵菜單中的忽略并隱藏物體選項(xiàng)就可同時(shí)忽略并隱藏非序列組件編輯器中的物體。反之，也可以使用考慮并顯示物體選項(xiàng)來考慮和顯示對(duì)象。

2.2 保存和加載優(yōu)化器設(shè)置（所有版本）

確保使用自定義優(yōu)化設(shè)置時(shí)的一致性

新版本中用戶能在所有優(yōu)化窗口中保存設(shè)置、加載過去已保存的設(shè)置，或者重置為默認(rèn)設(shè)置�？梢栽诓煌�的優(yōu)化過程中對(duì)優(yōu)化設(shè)置進(jìn)行自定義、保存以及加載。

在局部優(yōu)化、全局優(yōu)化和錘形優(yōu)化窗口中添加了保存、加載和重置按鈕。保存按鈕將當(dāng)前設(shè)置保存到OpticStudio配置文件中，加載按鈕將加載最后保存的設(shè)置，重置按鈕將所有設(shè)置重置為默認(rèn)設(shè)置。

需要注意的是：優(yōu)化窗口將會(huì)保存優(yōu)化過程中使用的最后一次設(shè)置。如果更改優(yōu)化設(shè)置并運(yùn)行優(yōu)化，然后關(guān)閉該優(yōu)化窗口并重新打開，新的窗口將使用最后一次用到的設(shè)置。要再次使用任何已存的設(shè)置則必須通過重新加載設(shè)置。

在優(yōu)化選項(xiàng)卡中可以找到局部、全局和錘形優(yōu)化器。

2.3 繪制以自動(dòng)比例縮放的視場(chǎng)圖（所有版本）

快速定義視場(chǎng)分布以充分采樣所需視場(chǎng)

現(xiàn)在視場(chǎng)數(shù)據(jù)編輯器（FDE）中的視場(chǎng)圖通過自動(dòng)比例進(jìn)行縮放，確保已定義的所有視場(chǎng)都清晰可見。

視場(chǎng)圖顯示的默認(rèn)縮放比例是最大視場(chǎng)的1.1倍。包含視場(chǎng)圖的視場(chǎng)編輯器可以在設(shè)置選項(xiàng)卡的編輯器菜單中找到。

2.4 將存檔文件提取到源文件夾中（所有版本）

從ZAR文件中提取OpticStudio文件并一鍵保存到目標(biāo)路徑中

還原Zemax檔案文件（ZAR）窗口現(xiàn)在添加了新的保存路徑按鈕，能夠?qū)⑻崛〕龅奈募�保存到與源文件相同的路徑中。

在文件選項(xiàng)卡中點(diǎn)擊加載存檔文件來打開還原Zemax 檔案文件窗口，在此窗口中選擇同文件路徑選項(xiàng)，將設(shè)置文件提取的目標(biāo)路徑為源ZAR文件的上一級(jí)目錄。

2.5 對(duì)比存檔文件內(nèi)容（所有版本）

分享給同事OpticStudio文件并輕松識(shí)別更改的內(nèi)容

新版本的還原Zemax 檔案文件（ZAR）窗口中添加了提示不同這一設(shè)置，新的文件提取設(shè)置能將ZAR中的文件和已有的OpticStudio文件進(jìn)行對(duì)比。

提示不同這一設(shè)置能對(duì)ZAR中的文件和已有的OpticStudio文件進(jìn)行對(duì)比。如果ZAR中的新文件與現(xiàn)有文件相同，OpticStudio使用現(xiàn)有文件。如果沒有相同的文件，OpticStudio提示用戶在新文件或現(xiàn)有文件之間進(jìn)行選擇。

在文件選項(xiàng)卡中點(diǎn)擊加載存檔文件來打開還原Zemax 檔案文件窗口。

2.6 在分類數(shù)據(jù)報(bào)告中查看光線傳輸矩陣ABCD（所有版本）

方便地查看系統(tǒng)的ABCD矩陣

用戶在新版本分類數(shù)據(jù)報(bào)告的通用數(shù)據(jù)中查看光線傳輸矩陣的ABCD值。在以前的版本中，只能在網(wǎng)格畸變分析窗口的文本框中找到ABCD值。

矩陣ABCD的值是使用主波長和軸上視場(chǎng)（x=y=0）計(jì)算得到的。從分析選項(xiàng)卡中可以找到分類數(shù)據(jù)報(bào)告選項(xiàng)。

3. 編程  

3.1 使用ZOS-API運(yùn)行序列模式中的工具（專業(yè)版和旗艦版）

通過ZOS-API自動(dòng)進(jìn)行重復(fù)性操作及創(chuàng)建新的校準(zhǔn)過程。

新版本中ZOS-API能夠調(diào)用OpticStudio中的序列工具來完成鏡頭數(shù)據(jù)編輯器（LDE）中的添加和刪除反射鏡，翻轉(zhuǎn)元件，按焦距縮放，生成雙通系統(tǒng)的操作。

新版本中ZOS-API包含了鏡頭數(shù)據(jù)編輯器的上述工具，具體包括：

• 添加反射鏡

• 刪除反射鏡

• 翻轉(zhuǎn)元件

• 按焦距縮放

• 生成雙通系統(tǒng)

關(guān)于這些工具的詳細(xì)信息，查看ZOS-API語法幫助。

3.2 修改了ZOS-API中的參考（專業(yè)版和旗艦版）

使用ZOS-API自定義設(shè)置和配置選項(xiàng)

新版本中ZOS-API可以更改設(shè)置選項(xiàng)卡中的配置選項(xiàng)。

關(guān)于這些工具的詳細(xì)信息，請(qǐng)查看ZOS-API語法幫助。

3.3 使用ZRD READER獲得更多光線數(shù)據(jù)（專業(yè)版和旗艦版）

通過ZOS-API來分析更多光線追跡細(xì)節(jié)

ZOS-API中讀取Zemax光線數(shù)據(jù)（ZRD）的函數(shù)為IZRDReader，新版本中使用IZRDReader能獲得非序列光線追跡計(jì)算得到的所有追光信息。

使用IZRDReader能調(diào)用以下信息：

• 光線狀態(tài)：終止，反射，折射，散射，衍射，鬼像，衍射，面散射，體散射

• 光線分段數(shù)目

• 與光線相交的物體序號(hào)

• 與光線相交的面序號(hào)

• 光線在第幾個(gè)物體中傳播

• 前一段光線的分段序號(hào)

• 某光線到達(dá)探測(cè)器的像素序號(hào)

• 介質(zhì)的折射率

• 初始光程

• 光線交點(diǎn)的全局坐標(biāo)

• 光線的全局坐標(biāo)余弦

• 光線與物體交點(diǎn)處物體全局法矢量

• 分段光線的物理光程（距離非光程）

• 由物體增加的相位光程

• 光線累加的總光學(xué)相位

• 全局x，y，z坐標(biāo)中的電場(chǎng)強(qiáng)度（實(shí)部與虛部）

關(guān)于這些工具的詳細(xì)信息，查看ZOS-API語法幫助。

4. 數(shù)據(jù)庫與目錄  

4.1 材料庫（所有版本）

更新了由Sumita、APEL、Ohara和AngstromLink提供的最新材料庫

更新的Sumita材料庫反映了材料命名規(guī)則，以“K-”前綴命名的玻璃，熱膨脹系數(shù)被定義，材料的有效波長擴(kuò)展為0.36~1.55μm；以“(M)”后綴命名的玻璃，其色散方程是玻璃經(jīng)過塑模成型后的數(shù)據(jù)。

在數(shù)據(jù)庫選項(xiàng)卡中可以找到材料庫這一選項(xiàng)。

4.2 膜層（所有版本）

更新了Macleod最新膜層。

之前的Macleod膜層有0mm厚的不起作用的基底層，更新后的Macleod膜層移除了這一基底層。

在數(shù)據(jù)庫選項(xiàng)卡的中可以找到膜層工具和Macleod膜層。

4.3 光源模型（旗艦版）

更新了OSRAM最新的IES光源模型目錄

更新后的OSRAM IES光源模型目錄包含了新的LEDs，并移除了停產(chǎn)的產(chǎn)品。新的目錄現(xiàn)在包含598個(gè)光源模型。

在數(shù)據(jù)庫選項(xiàng)卡中使用下載IES光源文件工具來下載IES光源模型。

4.4 RADIANT光源模型（旗艦版）

更新了Philips Lumileds Lighting Company和DOMINANT Opto Technologies的Radiant光源模型目錄

更新后的Philips Lumileds Lighting Company Radiant光源模型目錄包含了77種新的LUXEON型高功率LEDs。

更新后的DOMINANT Opto Technologies Radiant光源模型目錄包含了53種在生產(chǎn)產(chǎn)品的光源模型文件。

從Radiant光源模型庫中移除了OSRAM LEDs和Vishay Intertechnology兩個(gè)不再有效的目錄。

在數(shù)據(jù)庫選項(xiàng)卡中可以下載Radiant光源模型。

4.5 樣板（所有版本）

更新了Wavelength Opto-Electronic和Rainbow Research Optics提供的套樣板列表文件

在安裝包中移除了Wavelength Opto-Electronic提供套樣板列表文件wavelength_singapore.tpd并添加了新的Wavelength Opto-Electronics (SG).tpd列表文件。

在安裝包中移除了Rainbow Research Optics提供套樣板列表文件Research.tpd并添加了新的RROITestPlates.tpd列表文件。

在數(shù)據(jù)庫選項(xiàng)卡的樣板列表中可以選擇列表文件。

4.6 庫存鏡頭（所有版本）

更新了Daheng Optics的鏡頭庫

Daheng Optics鏡頭庫中包含302個(gè)鏡頭，其中更新了一些新的鏡頭并移除了過時(shí)廢棄的鏡頭。

在數(shù)據(jù)庫選項(xiàng)卡中的鏡頭庫選項(xiàng)中查找鏡頭

4.7 硬件密匙驅(qū)動(dòng)程序（所有版本）

更新了Sentinel硬件密匙驅(qū)動(dòng)

這一部分內(nèi)容只適用于適用黑色USB Key的用戶。新的7.6.0版本的Sentinel System Driver可以與Windows的Credential Guard和Device Guard兼容。在設(shè)備管理器中查找更多與驅(qū)動(dòng)版本相關(guān)的信息。

5. 錯(cuò)誤修正  

OpticStudio 18.1包含了以下性能提升與錯(cuò)誤修正：

a）工具

• 優(yōu)化——改進(jìn)了優(yōu)化算法使系統(tǒng)在一次優(yōu)化途中優(yōu)化器被終止的情形下也能進(jìn)行優(yōu)化。

• 公差分析——修正了多個(gè)補(bǔ)償器作用下的公差分析輸出結(jié)果中補(bǔ)償器統(tǒng)計(jì)值錯(cuò)誤的問題。

b）序列模式表面與分析

• 光學(xué)制造全息表面——新版本中對(duì)光學(xué)制造全息表面進(jìn)行優(yōu)化時(shí)對(duì)變量的定義與以往不同，OpticStudio不再自動(dòng)將構(gòu)造文件中的所有變量作為OFH表面優(yōu)化的一部分。與此相反，需要在再現(xiàn)文件中使用HLGV操作數(shù)來定義構(gòu)造文件中的哪一變量應(yīng)當(dāng)作為優(yōu)化OFH表面時(shí)的優(yōu)化變量。這樣的更改使用戶能夠完全的控制使用的變量，例如使用拾取求解類型將構(gòu)造文件中的變量關(guān)聯(lián)起來。為了實(shí)現(xiàn)更加容易的HLGV操作數(shù)的設(shè)置，在多重結(jié)構(gòu)編輯器工具欄中添加了新的全息變量工具。

• 波前圖——在OpticStudio17.5波前圖中出現(xiàn)的RMS波前差計(jì)算錯(cuò)誤已經(jīng)被修正，在OpticStudio17.5中波前差的計(jì)算錯(cuò)誤地使用了RMS vs. Fieldanalysis中的算法。

• 橢圓光柵表面——改進(jìn)了使用橢圓光柵面時(shí)的光線追跡算法，能更好地處理掠入射情形。

c）非序列模式分析

• 系統(tǒng)選項(xiàng)——系統(tǒng)選項(xiàng)中非序列模式部分定義了最大嵌套/接觸物體數(shù)目，實(shí)際計(jì)算過程使用的是定義值的兩倍，這一問題被修復(fù)了�，F(xiàn)在打開使用舊版本保存的文件，系統(tǒng)選項(xiàng)中可顯示正確的值。

• 探測(cè)器查看器——在矩形探測(cè)器中使用的立體角的微小計(jì)算錯(cuò)誤被修正。這一錯(cuò)誤僅在探測(cè)器查看器上查看角度強(qiáng)度數(shù)據(jù)，且光強(qiáng)有大的角度分布時(shí)存在。

• 近軸透鏡對(duì)象—— OpticStudio現(xiàn)在支持在非序列模式中定義近軸透鏡作為反射鏡。

d）編程

• Zemax編程語言（ZPL）——新版本ZPL中的LOADLENS關(guān)鍵字在開啟一個(gè)新的沒有session文件的文件時(shí)將不再關(guān)閉之前打開的分析窗口。

• ZOS-API ——修正了MATLAB交互擴(kuò)展樣板代碼中的一個(gè)打字錯(cuò)誤，第80行中錯(cuò)誤的讀取MXException()，現(xiàn)在被修正為讀取MException()。

6. 已知問題  

OpticStudio 18.1包含一個(gè)已知問題：

• 當(dāng)從服務(wù)器端的網(wǎng)絡(luò)許可中借走license離線使用時(shí)，在某些情形下客戶端電腦重啟電腦后，license可能會(huì)從客戶端電腦被移除。適用于：可能受影響的版本從OpticStudio17到OpticStudio18.1解決方案：這一問題目前已經(jīng)被我們的許可證廠商修復(fù)，下一版的OpticStudio中也將包含解決問題的進(jìn)一步舉措。在下一版OpticStudio發(fā)布前為了解決該問題，用戶可以在客戶端電腦或安裝有軟Softkey的服務(wù)器電腦上升級(jí)Sentinel LDK runtime。通過查閱知識(shí)庫文章How toTroubleshoot Softkey License Issues中的許可證Check Out章節(jié)來獲取更多信息。

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