上海光機所在脈寬壓縮光柵損傷研究中取得進展
近日,中國科學(xué)院上海光學(xué)精密機械研究所薄膜光學(xué)實驗室在脈寬壓縮光柵光致?lián)p傷研究中取得新進展。 科研人員明確了金膜與基底材料的結(jié)合力是限制光柵閾值提高的主要原因(圖1),提出在石英光柵結(jié)構(gòu)基底鍍制金膜的方法以提升金光柵的損傷閾值,研究確定了“三明治”光柵的初始損傷位于HfO2層(圖2),并通過分析指出HfO2是限制金屬介質(zhì)光柵閾值提升的主要因素,為進一步提高其損傷閾值指明了方向?蒲腥藛T提出采用非對稱光柵結(jié)構(gòu)降低局部電場增強效應(yīng),采用雙底角光柵設(shè)計(圖3),使光柵在保持寬帶高衍射效率的同時,其電場增強極值減少21.3%,此結(jié)構(gòu)能夠有效提高光柵閾值。 |