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上海光機所在脈寬壓縮光柵損傷研究中取得進展

發(fā)布:cyqdesign 2018-07-05 18:48 閱讀:1902
近日,中國科學院上海光學精密機械研究所薄膜光學實驗室在脈寬壓縮光柵光致?lián)p傷研究中取得新進展。 bUs0 M0y  
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  科研人員明確了金膜與基底材料的結合力是限制光柵閾值提高的主要原因(圖1),提出在石英光柵結構基底鍍制金膜的方法以提升金光柵的損傷閾值,研究確定了“三明治”光柵的初始損傷位于HfO2層(圖2),并通過分析指出HfO2是限制金屬介質光柵閾值提升的主要因素,為進一步提高其損傷閾值指明了方向。科研人員提出采用非對稱光柵結構降低局部電場增強效應,采用雙底角光柵設計(圖3),使光柵在保持寬帶高衍射效率的同時,其電場增強極值減少21.3%,此結構能夠有效提高光柵閾值。 sXqz+z$*  
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