中國集成電路制造年會近日邀請到了光刻機霸主ASML（阿斯麥）中國區(qū)總裁沈波參加，他出面解答了一些媒體關心的話題。盡管UMC（聯(lián)電）和Globalfoundries（格羅方德，格芯）先后宣布放棄7nm制程及更先進工藝的研發(fā)，但ASML依然對EUV光刻機的前景表示樂觀。 `C,n0'PL.  
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此前有消息指出，中芯國際（SMIC）今年已向ASML訂購了一臺EUV光刻機，預計明年交付，用于7nm節(jié)點。 ~kV/!=  
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同時，傳統(tǒng)的沉浸式光刻機方面，沈波稱，今年下半年ASML已開始出貨家族最先進的NXT:2000i，很快會在中國市場上也見到。 5G}?fSQ>  
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另外，媒體早先有報道稱，長江存儲、上海華虹半導體分別向ASML訂購了193納米浸沒式光刻機和193納米雙工件臺沉浸式光刻機NXT:1980Di，分別用于存儲芯片制造、晶圓代工。 l&[O