由于電磁場的矢量性質(zhì)，偏振效應通常在現(xiàn)代
光學研究和
工程中起重要作用。線性
偏振鏡（例如線柵偏振鏡）可能是用于操縱偏振態(tài)的最常用的
光學元件。 盡管在大多數(shù)情況下，偏振鏡設計用于傍軸情況，但它們也用于非傍軸設置，例如， 在高NA透鏡后面的聚焦區(qū)域或測量高傾斜偏振鏡后面的Stokes參數(shù)。 在VirtualLab Fusion中，我們?yōu)榉前S情況下的偏振鏡提供了一個
模型。 此外，VirtualLab獲得的
仿真結果與參考文獻具有良好的一致性。
#_?m.~`g[ XT ` 2Z= 聚焦區(qū)域處的偏振鏡
3$f+ 3/l y)*W!]:7^> d$qi. %<kh $ /#F9>e Z 為了在非傍軸設置中
模擬偏振鏡，在VirtualLab中實現(xiàn)了理想化模型，并且呈現(xiàn)了偏振鏡在聚焦區(qū)域中的效果。
E - +t[W -|g9__|@ 傾斜偏振鏡背后的Stokes參數(shù)
k;V (rf ` ?ytY8` PC Rx,5?*b$ 1<;RI?R[9 使用理想化的非傍軸偏振鏡模型，研究了偏振鏡與來自不同
角度的入射波的相互作用，并且使用Stokes參數(shù)來表征結果。（來源：訊技
光電）
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