激光誘導(dǎo)損傷閾值是大功率光學(xué)系統(tǒng)中重要參數(shù),其數(shù)值大小對(duì)激光系統(tǒng)的輸出功率與穩(wěn)定性具有重要影響。為了突破損傷閾值對(duì)激光光學(xué)系統(tǒng)輸出功率的限制,科研人員主要從制備薄膜工藝、激光特性、薄膜特性以及薄膜后工藝等方面開展研究。本文介紹了高反膜理論、制備工藝;綜述了近十年來國(guó)內(nèi)外對(duì)高反膜損傷研究的成果;闡述了激光特性、薄膜特性以及薄膜后工藝對(duì)薄膜損傷閾值的影響。在此基礎(chǔ)上,對(duì)提高高反膜損傷閾值的研究和發(fā)展趨勢(shì)進(jìn)行了分析與展望。