用默認評價函數(shù)優(yōu)化時，我先用spot diagram優(yōu)化，等像質(zhì)較好時，換成wavefront優(yōu)化，MTF曲線能提升很快，像質(zhì)什么的都比較好，但是鏡片的結(jié)構(gòu)會變得很奇怪，邊界條件我限的很嚴了，就是控制不住，請問大家有遇到類似問題嗎？spot 切換成wavefront 進行優(yōu)化時要注意什么呢？評價函數(shù)里要改寫什么才不致跑偏？（邊界條件我限的很嚴了）

我平常做的時候直接用spot diagram，幾乎不把兩個連在一起用

邊界限制條件的那個權(quán)重給的不夠重吧！我通常給的都很重。

hit2011:我平常做的時候直接用spot diagram，幾乎不把兩個連在一起用 (2018-12-26 00:47)  L(&}Wv  

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只用spot 優(yōu)化的話，MTF曲線能達到要求嗎？感覺用wavefront 優(yōu)化的話，MTF能提升很快

ljj722:邊界限制條件的那個權(quán)重給的不夠重吧！我通常給的都很重。 (2018-12-26 08:26)  E;-qP)yU  

M$CVQ>op:  
給了很重了。是不是因為我的結(jié)構(gòu)不穩(wěn)定，然后換成wavefront優(yōu)化就容易跑偏？在spot 優(yōu)化下達到什么程度再換wavefront呢？有資料說等OPD小于幾個波長，可是我的已經(jīng)小于幾個波長了

彌散斑優(yōu)化和波前優(yōu)化的區(qū)別我個人覺得有以下兩點： Sr y,@p)  
1.彌散斑優(yōu)化直接改成波前優(yōu)化，權(quán)重以及個人寫的操作數(shù)都不做修改的話，波前優(yōu)化中默認評價函數(shù)在總的操作數(shù)中所占的貢獻比例會超過前者。相對權(quán)重的不一樣是導(dǎo)致波前優(yōu)化與彌散斑優(yōu)化結(jié)果有差異的一個方面。 s'2Rs^,hN  
2.彌散斑優(yōu)化目標在于將全孔徑的RMS矯正到基本一致且盡可能小的程度，這意味著，中間孔徑和邊緣孔徑的像質(zhì)的會基本一致，要達到這種效果，那么孔徑邊緣和中間孔徑的光線的光程差差別不大，這就意味著光學系統(tǒng)中透鏡的厚薄比不會出現(xiàn)很極端的情況。但是波前優(yōu)化的目標是提高MTF，提高MTF的一個關(guān)鍵是在彌散斑中形成致密的核心，在這種指導(dǎo)思想下，優(yōu)化程序會相對放棄邊緣孔徑的像質(zhì)，而優(yōu)先保證中心和中部孔徑的像質(zhì)，在無法使得全口徑的像質(zhì)同時變好的前提下，這顯然是最合適的方案。相對放棄邊緣孔徑的像質(zhì)則意味著中間孔徑和邊緣孔徑的像質(zhì)相差巨大，那么可以推知兩者的光程差也會相差很大，要形成這樣的效果，就會出現(xiàn)某些鏡片彎曲特別厲害，厚薄比很極端，形狀也很怪異的現(xiàn)象。所以建議在使用波前優(yōu)化功能時，適當控制透鏡形狀。 \K`jCsT  
以上內(nèi)容并無實際數(shù)據(jù)驗證，只是一些感官上的認知，樓主權(quán)當參考。 l`rC0kJ]  

萍水相逢:彌散斑優(yōu)化和波前優(yōu)化的區(qū)別我個人覺得有以下兩點： 3jg'1^c  
1.彌散斑優(yōu)化直接改成波前優(yōu)化，權(quán)重以及個人寫的操作數(shù)都不做修改的話，波前優(yōu)化中默認評價函數(shù)在總的操作數(shù)中所占的貢獻比例會超過前者。相對權(quán)重的不一樣是導(dǎo)致波前優(yōu)化與彌散斑優(yōu)化結(jié)果有差異的一個方面。 GXEcpc08  
2.彌散斑優(yōu)化目標 .. (2018-12-29 12:49)  %L