用默認(rèn)評價(jià)函數(shù)優(yōu)化時(shí)，我先用spot diagram優(yōu)化，等像質(zhì)較好時(shí)，換成wavefront優(yōu)化，MTF曲線能提升很快，像質(zhì)什么的都比較好，但是鏡片的結(jié)構(gòu)會變得很奇怪，邊界條件我限的很嚴(yán)了，就是控制不住，請問大家有遇到類似問題嗎？spot 切換成wavefront 進(jìn)行優(yōu)化時(shí)要注意什么呢？評價(jià)函數(shù)里要改寫什么才不致跑偏？（邊界條件我限的很嚴(yán)了）

我平常做的時(shí)候直接用spot diagram，幾乎不把兩個(gè)連在一起用

邊界限制條件的那個(gè)權(quán)重給的不夠重吧！我通常給的都很重。

hit2011:我平常做的時(shí)候直接用spot diagram，幾乎不把兩個(gè)連在一起用 (2018-12-26 00:47)  cBLR#Yu;O5  

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只用spot 優(yōu)化的話，MTF曲線能達(dá)到要求嗎？感覺用wavefront 優(yōu)化的話，MTF能提升很快

ljj722:邊界限制條件的那個(gè)權(quán)重給的不夠重吧！我通常給的都很重。 (2018-12-26 08:26)  h ?uqLsRl  

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給了很重了。是不是因?yàn)槲业慕Y(jié)構(gòu)不穩(wěn)定，然后換成wavefront優(yōu)化就容易跑偏？在spot 優(yōu)化下達(dá)到什么程度再換wavefront呢？有資料說等OPD小于幾個(gè)波長，可是我的已經(jīng)小于幾個(gè)波長了

彌散斑優(yōu)化和波前優(yōu)化的區(qū)別我個(gè)人覺得有以下兩點(diǎn)： >; aCf#q  
1.彌散斑優(yōu)化直接改成波前優(yōu)化，權(quán)重以及個(gè)人寫的操作數(shù)都不做修改的話，波前優(yōu)化中默認(rèn)評價(jià)函數(shù)在總的操作數(shù)中所占的貢獻(xiàn)比例會超過前者。相對權(quán)重的不一樣是導(dǎo)致波前優(yōu)化與彌散斑優(yōu)化結(jié)果有差異的一個(gè)方面。 0y)}.'  
2.彌散斑優(yōu)化目標(biāo)在于將全孔徑的RMS矯正到基本一致且盡可能小的程度，這意味著，中間孔徑和邊緣孔徑的像質(zhì)的會基本一致，要達(dá)到這種效果，那么孔徑邊緣和中間孔徑的光線的光程差差別不大，這就意味著光學(xué)系統(tǒng)中透鏡的厚薄比不會出現(xiàn)很極端的情況。但是波前優(yōu)化的目標(biāo)是提高M(jìn)TF，提高M(jìn)TF的一個(gè)關(guān)鍵是在彌散斑中形成致密的核心，在這種指導(dǎo)思想下，優(yōu)化程序會相對放棄邊緣孔徑的像質(zhì)，而優(yōu)先保證中心和中部孔徑的像質(zhì)，在無法使得全口徑的像質(zhì)同時(shí)變好的前提下，這顯然是最合適的方案。相對放棄邊緣孔徑的像質(zhì)則意味著中間孔徑和邊緣孔徑的像質(zhì)相差巨大，那么可以推知兩者的光程差也會相差很大，要形成這樣的效果，就會出現(xiàn)某些鏡片彎曲特別厲害，厚薄比很極端，形狀也很怪異的現(xiàn)象。所以建議在使用波前優(yōu)化功能時(shí)，適當(dāng)控制透鏡形狀。 e# t3u_  
以上內(nèi)容并無實(shí)際數(shù)據(jù)驗(yàn)證，只是一些感官上的認(rèn)知，樓主權(quán)當(dāng)參考。 U
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萍水相逢:彌散斑優(yōu)化和波前優(yōu)化的區(qū)別我個(gè)人覺得有以下兩點(diǎn)： Y>BP?l  
1.彌散斑優(yōu)化直接改成波前優(yōu)化，權(quán)重以及個(gè)人寫的操作數(shù)都不做修改的話，波前優(yōu)化中默認(rèn)評價(jià)函數(shù)在總的操作數(shù)中所占的貢獻(xiàn)比例會超過前者。相對權(quán)重的不一樣是導(dǎo)致波前優(yōu)化與彌散斑優(yōu)化結(jié)果有差異的一個(gè)方面。 'Hw4j:pS  
2.彌散斑優(yōu)化目標(biāo) .. (2018-12-29 12:49)  9XX>A*  

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謝謝，對我很有啟發(fā)

個(gè)人覺得，mtf靠近衍射極限的時(shí)候，波前優(yōu)化效果較好

權(quán)肯定變了~查一下權(quán)重~

波前優(yōu)化會更好吧