半導(dǎo)體制造過程中最復(fù)雜也是最難的步驟就是光刻，成本能占到整個(gè)生產(chǎn)過程的1/3，光刻機(jī)也因此成為最重要的半導(dǎo)體制造裝備，沒有之一。目前最先進(jìn)的光刻機(jī)是荷蘭ASML公司生產(chǎn)的EUV光刻機(jī)，每臺(tái)售價(jià)超過1億美元，而且供不應(yīng)求。 S1|5+PPs  
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2019年，臺(tái)積電、三星都會(huì)開始量產(chǎn)7nm EUV工藝，現(xiàn)有的EUV光刻機(jī)也差不多成熟了，雖然產(chǎn)量比起傳統(tǒng)的DUV光刻機(jī)還有所不如，不過已經(jīng)能夠穩(wěn)定量產(chǎn)了，7nm及明年的5nm節(jié)點(diǎn)上EUV光刻機(jī)都會(huì)是重點(diǎn)。 f@}>:x  
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EUV光刻機(jī)未來還能怎么發(fā)展？2016年ASML公司宣布斥資20億美元收購德國蔡司公司25%的股份，并投資數(shù)億美元合作研發(fā)新一代透鏡，而ASML這么大手筆投資光學(xué)鏡頭公司就是為了研發(fā)新一代EUV光刻機(jī)。 [aSuEu?mC  
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