微光顯微鏡EMMI原理微光顯微鏡EMMI原理對(duì)于失效分析而言,微光顯微鏡是一種相當(dāng)有用,且效率極高的分析 工具,主要偵測(cè)IC內(nèi)部所放出光子。在IC原件中,EHP Recombination會(huì)放出光子,例如:在PN Junction加偏壓,此時(shí)N的電子很容易擴(kuò)散到P,而P的空穴也容易擴(kuò)散至N,然后與P端的空穴做EHP Recombination。 偵測(cè)到亮點(diǎn)之情況 會(huì)產(chǎn)生亮點(diǎn)的缺陷:1.漏電結(jié);2.解除毛刺;3.熱電子效應(yīng);4閂鎖效應(yīng); 5氧化層漏電;6多晶硅須;7襯底損失;8.物理損傷等。 偵測(cè)不到亮點(diǎn)之情況 不會(huì)出現(xiàn)亮點(diǎn)之故障:1.亮點(diǎn)位置被擋到或遮蔽的情形(埋入式的接面及大面積金屬線底下的漏電位置);2.歐姆接觸;3.金屬互聯(lián)短路;4.表面反型層;5.硅導(dǎo)電通路等。 |