在半導(dǎo)體制造中，光刻是最重要的一個環(huán)節(jié)，同時也是決定半導(dǎo)體工藝水平的關(guān)鍵，高端芯片要光刻多次，占到了制造成本的三分之一，目前全球的光刻機(jī)主要壟斷在荷蘭ASML、日本佳能、尼康手里。 u=W[ S)w  
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國內(nèi)也是有光刻機(jī)研發(fā)生產(chǎn)能力的，不過技術(shù)水平比較低，國內(nèi)公司的光刻機(jī)主要用于90nm及以上的工藝，先進(jìn)工藝上依然要依賴進(jìn)口光刻機(jī)，但是這個局面有可能加速改變。 [ei~Xkzkj  
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日前北京國望光學(xué)科技宣布，該公司價值10億元的增資方案已經(jīng)在北京產(chǎn)權(quán)交易所完成，該公司引入了中國科學(xué)院長春光學(xué)精密機(jī)械與物理研究所和中國科學(xué)院上海光學(xué)精密機(jī)械研究所作為戰(zhàn)略投資者，兩家機(jī)構(gòu)以無形資產(chǎn)作價10億元入股，對應(yīng)持股比例為33.33%。 uo2k  
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中科院下屬的長春、北京研究所本身也是國內(nèi)光刻機(jī)研發(fā)領(lǐng)域的重要力量，現(xiàn)在三家公司進(jìn)行了緊密合作，意味著北京在推動國產(chǎn)光刻機(jī)核心部件生產(chǎn)方面邁出實質(zhì)性步伐，將加快突破國產(chǎn)中高端光刻機(jī)制造“卡脖子”技術(shù)難題。