具有直壁或傾斜側壁的二元光柵已成為許多光學應用中的關鍵部件。 感謝納米壓印技術，使小尺寸的光柵的制造已經(jīng)變得可行。 VirtualLab Fusion采用內(nèi)置的傅里葉模態(tài)方法（FMM，也稱為RCWA）和不同的優(yōu)化算法，為二元光柵提供了完整的用戶友好的設計工作流程，和隨后的制造誤差分析，如圓邊效應。 uvAy#,
  

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高效偏振無關透射光柵的分析與設計 bC>yIjCTn  
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