半導(dǎo)體材料及芯片的歷史
半導(dǎo)體材料及芯片的歷史
第一代:以硅材料為代表的第一代半導(dǎo)體材料目前仍然是最主要的半導(dǎo)體器件材料。但是硅材料帶隙(禁帶)較窄和擊穿電場(chǎng)較低等物理屬性的特點(diǎn)限制了其在光電子領(lǐng)域和高頻高功率器件方面的應(yīng)用。 第二代:20世紀(jì)90年代以來(lái),隨著無(wú)線通信的飛速發(fā)展和以光纖通信為基礎(chǔ)的信息高速公路與互聯(lián)網(wǎng)的興起,以砷化鎵(GaAs)和磷化銦(InP)為代表的第二代半導(dǎo)體材料開(kāi)始嶄露頭角。目前GaAs幾乎壟斷了手機(jī)制造中的功放器件市場(chǎng)。 第三代:第三代半導(dǎo)體材料的興起以GaN(氮化鎵)材料P型摻雜的突破為起點(diǎn),以高亮度藍(lán)光發(fā)光二極管(LED)和藍(lán)光激光器研制成功為標(biāo)志的。 |