半導(dǎo)體漏電定位技術(shù)emmi
EMMI(微光顯微鏡) 對(duì)于失效分析而言,微光顯微鏡是一種相當(dāng)有用,且效率極高的分析工具,主要偵測(cè)IC內(nèi)部所放出光子。在IC原件中,EHP Recombination會(huì)放出光子,例如:在PN Junction加偏壓,此時(shí)N的電子很容易擴(kuò)散到P, 而P的空穴也容易擴(kuò)散至N,然后與P端的空穴做EHP Recombination。 偵測(cè)到亮點(diǎn)之情況 會(huì)產(chǎn)生亮點(diǎn)的缺陷:1.漏電結(jié);2.解除毛刺;3.熱電子效應(yīng);4閂鎖效應(yīng); 5氧化層漏電;6多晶硅須;7襯底損失;8.物理損傷等。 |