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半導(dǎo)體漏電定位技術(shù)emmi

發(fā)布:探針臺(tái) 2019-12-27 08:32 閱讀:2371
EMMI(微光顯微鏡 #6t 4 vJ1  
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對于失效分析而言,微光顯微鏡是一種相當(dāng)有用,且效率極高的分析工具,主要偵測IC內(nèi)部所放出光子。在IC原件中,EHP Recombination會(huì)放出光子,例如:在PN Junction加偏壓,此時(shí)N的電子很容易擴(kuò)散到P, 而P的空穴也容易擴(kuò)散至N,然后與P端的空穴做EHP Recombination。 _n6ge*,E  
偵測到亮點(diǎn)之情況  8*nv+  
會(huì)產(chǎn)生亮點(diǎn)的缺陷:1.漏電結(jié);2.解除毛刺;3.熱電子效應(yīng);4閂鎖效應(yīng); 5氧化層漏電;6多晶硅須;7襯底損失;8.物理損傷等。 f`r o {p  
   6`K R  
偵測不到亮點(diǎn)之情況   8fV.NCyE  
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不會(huì)出現(xiàn)亮點(diǎn)之故障:1.亮點(diǎn)位置被擋到或遮蔽的情形(埋入式的接面及大面積金屬線底下的漏電位置);2.歐姆接觸;3.金屬互聯(lián)短路;4.表面反型層;5.硅導(dǎo)電通路等。 [NG~FwpRf  
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點(diǎn)被遮蔽之情況:埋入式的接面及大面積金屬線底下的漏電位置,這種情況可采用Backside模式,但是只能探測近紅外波段的發(fā)光,且需要減薄及拋光處理。 W<f-