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半導(dǎo)體術(shù)語解釋 （三） 將我們的蒸鍍源放在坩堝里加熱，當(dāng)溫度升高到接近蒸鍍源的熔點(diǎn)附近。這時(shí)，原本處于固態(tài)的蒸鍍源的蒸發(fā)能力將特別強(qiáng)，利用這些被蒸發(fā)出來的蒸鍍源原子，我們在其上方不遠(yuǎn)處的芯片表面上，進(jìn)行薄膜沉積。我們將這種方法叫蒸鍍。 78) Exposure曝光 |
半導(dǎo)體術(shù)語解釋 （三）將我們的蒸鍍源放在坩堝里加熱，當(dāng)溫度升高到接近蒸鍍源的熔點(diǎn)附近。這時(shí)，原本處于固態(tài)的蒸鍍源的蒸發(fā)能力將特別強(qiáng)，利用這些被蒸發(fā)出來的蒸鍍源原子，我們在其上方不遠(yuǎn)處的芯片表面上，進(jìn)行薄膜沉積。我們將這種方法叫蒸鍍。 78) Exposure曝光 |