近日，由南京大學物理學院高力波教授團隊領銜，協(xié)同學院四個青年學者團隊，以“質子輔助生長超平整石墨烯薄膜”為題，在《自然》雜志上發(fā)表了將質子輔助生長用于高質量石墨烯制備的研究成果。這項工作，不僅探索出了一種可控生長超平整石墨烯薄膜的方法，更為重要的是，該團隊還發(fā)現(xiàn)了這種生長方法的內在機制，即質子輔助，這種方法有望推廣到柔性電子學、高頻晶體管等更多重要的研究領域。 lwV#j}G  
^mH^cP?/  
據悉，該成果所涉及的化學氣相沉積方法（CVD）生長石墨烯，是目前制備大面積、高品質單晶晶�；蛘弑∧さ淖钪饕�方法。然而，由于石墨烯與基質材料能夠產生強耦合作用，使得石墨烯在生長過程中會形成褶皺。這一現(xiàn)象嚴重限制了大尺度均一薄膜的制備，阻礙著二維材料的進一步發(fā)展應用。 4kIy4x'*  
5YRa2#d  
“CVD石墨烯中的褶皺是影響其物性的重要瓶頸。”高力波告訴記者，CVD石墨烯中的褶皺，來源于石墨烯與生長基體的熱脹率差異，石墨烯生長于銅或者鉑等生長基體，生長溫度多在600度以上，生長完成后降至室溫便引起石墨烯的褶皺。褶皺的存在，會影響石墨烯的優(yōu)良特性，然而，究竟在多大程度上能夠影響其性能，并沒有完整的對比數據�！叭绾螐氐椎叵�除褶皺，并制備出超平整的石墨烯薄膜，逐漸成為其品質跨越式提升的重點和難點�！备吡Σㄕf道。 #zfBNkk