對(duì)于
非球面面型給
系統(tǒng)帶來的影響很多時(shí)候都不好衡量。目前我用的方法是根據(jù)以前的數(shù)據(jù)類比,得到一個(gè)可能的面型數(shù)據(jù),然后代回zemax進(jìn)行各項(xiàng)
光學(xué)參數(shù)分析。
Uw4>v: 主要優(yōu)點(diǎn):較為貼近制程,gap一般不會(huì)太大;
MJ=)v]a 主要缺點(diǎn):只能分析單一的面型對(duì)于系統(tǒng)的影響,對(duì)于多
鏡片系統(tǒng)來說,操作繁瑣效率低下。
(os$B >YUoh-]` 麻煩各位路過的大佬分享一下對(duì)于非球面面型
公差分析的其他方法。
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