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碳化硅第三代半導(dǎo)體技術(shù)

發(fā)布:探針臺(tái) 2020-03-20 10:45 閱讀:2359
得碳化硅得天下 AAdRuO{l1  
| 步日欣 K0\a+6kh  
內(nèi)容精要:小米快充,激活的是第三代半導(dǎo)體材料氮化鎵(GaN),除了氮化鎵,第三代半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)化成熟的還有碳化硅(SiC)!暗锰蓟枵,得天下”,恰逢國內(nèi)上市公司露笑科技(002617)正在籌劃非公開發(fā)行股票,募投方向正是碳化硅(SiC)晶體材料的產(chǎn)業(yè)化,本文結(jié)合露笑科技電話會(huì)議的內(nèi)容,對(duì)第三代半導(dǎo)體材料碳化硅的技術(shù)和產(chǎn)品,以及露笑科技在碳化硅領(lǐng)域的產(chǎn)業(yè)布局,進(jìn)行一個(gè)全方位的解讀。 d/(=q  
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最近二級(jí)市場火熱的第三代半導(dǎo)體,在小米快速充電頭的助力下引爆,在資本市場上引起的波瀾,估計(jì)雷軍也始料未及。因?yàn)樾∶卓斐溆玫氖堑墸?/font>GaN)功率器件,因此大家普遍關(guān)注的是第三代半導(dǎo)體材料之一的氮化鎵。 |b/J$.R  
而第三代半導(dǎo)體已經(jīng)產(chǎn)業(yè)化應(yīng)用的,除了氮化鎵(GaN),還有另外一種材料——碳化硅(SiC)。 H+3I[`v  
“得碳化硅者,得天下” fT8Id\6js  
這是品利基金投資經(jīng)理陳啟最早喊出的一句口號(hào),以碳化硅為襯底材料,碳化硅基碳化硅、碳化硅基氮化鎵,既可以滿足功率器件要求,又可以做射頻器件,一材兩用,足以見得碳化硅材料在第三代半導(dǎo)體中的地位,而且產(chǎn)業(yè)化成熟,未來前景可期。 FV$= l %  
恰逢國內(nèi)上市公司露笑科技(002617)正在籌劃非公開發(fā)行股票,募投方向正是第三代半導(dǎo)體材料碳化硅(SiC)晶體材料的產(chǎn)業(yè)化。223日,上市公司董秘、財(cái)務(wù)總監(jiān)和碳化硅項(xiàng)目負(fù)責(zé)人,還專門就此次增發(fā)和公司碳化硅業(yè)務(wù),在財(cái)通電新平臺(tái)上向投資者做了解答。 %`}CbD6  
在資本市場爆發(fā)的一周內(nèi)啟動(dòng)增發(fā),節(jié)奏掌握的夠準(zhǔn)。 ),\>'{~5&  
本文結(jié)合此次電話會(huì)議內(nèi)容,對(duì)第三代半導(dǎo)體材料碳化硅的技術(shù)和產(chǎn)品,以及露笑科技在碳化硅領(lǐng)域的產(chǎn)業(yè)布局,進(jìn)行一個(gè)全方位的解讀。 Oyq<y~}  
根據(jù)公眾號(hào)“創(chuàng)道咨詢”(FinanceDL)昨天的文章《虛虛實(shí)實(shí)第三代半導(dǎo)體,一文看透幾家上市公司概念》,已經(jīng)對(duì)幾家涉及第三代半導(dǎo)體概念的上市公司做了一個(gè)初步解讀,其中就包括露笑科技。 Xt= &  
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在第三代半導(dǎo)體領(lǐng)域,露笑科技專注的是碳化硅長晶設(shè)備和碳化硅晶體材料。長晶設(shè)備已經(jīng)向合作伙伴供貨,碳化硅晶體材料是此次募投方向。所以露笑科技在碳化硅領(lǐng)域的階段定位為早期,技術(shù)成熟,市場有待開拓。 4'54  
今天我們就談一談,第三代半導(dǎo)體材料的主角之一, ;^DUtr ;  
碳化硅(SiC)。 !nj%n  
本文嘗試將碳化硅技術(shù)、產(chǎn)品和市場,以及露笑科技的產(chǎn)業(yè)布局,穿插在一起講,希望能夠更形象一些。為了辨識(shí)度更高,本文黑色字體為碳化硅通識(shí)介紹,藍(lán)色字體為露笑科技相關(guān)介紹。 L238l  
首先,對(duì)于第三代半導(dǎo)體材料,主要是區(qū)別于一代、二代而言,但基本上都是四族元素(碳、硅、鍺)及其化合物: +ZE&]BO{  
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第一代半導(dǎo)體材料以硅(Si)、鍺(Ge)為代表;第二代半導(dǎo)體材料以砷化鎵(GaAs)、磷化銦(InP)為代表;第三代半導(dǎo)體材料,目前各大廠商摩拳擦掌積極布局的,包括碳化硅(SiC)、氮化鎵(GaN)、氧化鋅(ZnO)、氮化鋁(AlN)、金剛石(C)等。 OV8b~k4=  
zhaojh@kw.beijing.gov.cn這三代半導(dǎo)體,劃分標(biāo)準(zhǔn)主要是按照材料性能指標(biāo)高低及產(chǎn)業(yè)化難易程度,越往高世代,產(chǎn)業(yè)化難度越高,材料性能越優(yōu)異,包括禁帶寬度、導(dǎo)熱率、擊穿電壓等。比如本文要講的碳化硅(SiC),與第一代半導(dǎo)體材料硅(Si)相比,禁帶寬度是硅的3倍、導(dǎo)熱率3倍、擊穿電場9倍、飽和漂移速度2.7倍。 31>k3IP&  
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