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    [轉(zhuǎn)載]高數(shù)值孔徑(NA)物鏡的聚焦分析 [復(fù)制鏈接]

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    只看樓主 倒序閱讀 樓主  發(fā)表于: 2020-06-09
    1. 摘要 y;xY74Nq  
       c-q=Ct  
    高NA物鏡廣泛用于光刻，顯微等技術(shù)。因此，聚焦仿真中考慮光的矢量性質(zhì)至關(guān)重要。VirtualLab可以非常便捷地對(duì)此類鏡頭進(jìn)行光線追跡和場(chǎng)追跡分析。通過場(chǎng)追跡，可以清楚地觀察由于矢量效應(yīng)引起的聚焦光斑失對(duì)稱現(xiàn)象。利用相機(jī)探測(cè)器和電磁場(chǎng)探測(cè)器能夠?qū)劢箙^(qū)域進(jìn)行靈活全面的研究，進(jìn)而加深對(duì)矢量效應(yīng)的理解。  y)GH=@b  
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    2. 建模任務(wù) o GN*p_g  
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    3. 概述 "1|\V.>>;  
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     示例系統(tǒng)包含了高數(shù)值孔徑物鏡 b  >x03%  
     下一步，我們將闡述如何遵循VirtualLab中推薦的工作流程執(zhí)行示例系統(tǒng)的仿真。 >Pf\"% *  
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    4. 光線追跡仿真 W|4h;[w  
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     首先，選擇“Ray Tracing System Analyzer”作為仿真引擎。 l _g