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1. 摘要 E%B Gf}h n<*]`do,w 高NA物鏡廣泛用于光刻，顯微等技術(shù)。因此，聚焦仿真中考慮光的矢量性質(zhì)至關(guān)重要。VirtualLab可以非常便捷地對此類鏡頭進(jìn)行光線追跡和場追跡分析。通過場追跡，可以清楚地觀察由于矢量效應(yīng)引起的聚焦光斑失對稱現(xiàn)象。利用相機(jī)探測器和電磁場探測器能夠?qū)劢箙^(qū)域進(jìn)行靈活全面的研究，進(jìn)而加深對矢量效應(yīng)的理解。 }C.{+U
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 Q$j48,e tvRy8u; 3. 概述 p\ S3A(
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示例系統(tǒng)包含了高數(shù)值孔徑物鏡 7!;/w;C
下一步，我們將闡述如何遵循VirtualLab中推薦的工作流程執(zhí)行示例系統(tǒng)的仿真。 i d'# s
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 qw1J{xoHW 2 s% M,Nb 4. 光線追跡仿真 !*6z=:J \
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