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1. 摘要 ',GS#~
aR,}W\6M 高NA物鏡廣泛用于光刻，顯微等技術(shù)。因此，聚焦仿真中考慮光的矢量性質(zhì)至關(guān)重要。VirtualLab可以非常便捷地對(duì)此類鏡頭進(jìn)行光線追跡和場(chǎng)追跡分析。通過(guò)場(chǎng)追跡，可以清楚地觀察由于矢量效應(yīng)引起的聚焦光斑失對(duì)稱現(xiàn)象。利用相機(jī)探測(cè)器和電磁場(chǎng)探測(cè)器能夠?qū)劢箙^(qū)域進(jìn)行靈活全面的研究，進(jìn)而加深對(duì)矢量效應(yīng)的理解。 [F5h
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PMfkA!.Y 2. 建模任務(wù) ='TE,et@d
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` 3. 概述 w
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示例系統(tǒng)包含了高數(shù)值孔徑物鏡 ~EK'&Y"1
下一步，我們將闡述如何遵循VirtualLab中推薦的工作流程執(zhí)行示例系統(tǒng)的仿真。 WD'#5]#Y
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 3s"0SLS4 "zIFxDR# 4. 光線追跡仿真 -{`@=U w`l{LHrR 1^i Pj i/
首先，選擇“Ray Tracing System Analyzer”作為仿真引擎。 Fq9Q+RNMZL
點(diǎn)擊“Go!”。 8u!"#S#>a
隨即獲得3D光線追跡結(jié)果 o[E_Ge}g8
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然后，選擇“Ray Tracing”作為仿真引擎。 e[Abp~@M1
點(diǎn)擊“Go!”。 5wUUx#
隨即獲得點(diǎn)列圖(2D光線追跡結(jié)果)。 6rS$yjTX!
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