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1. 摘要 U1:m=!S;x ;[ QIHA! 高NA物鏡廣泛用于光刻，顯微等技術(shù)。因此，聚焦仿真中考慮光的矢量性質(zhì)至關(guān)重要。VirtualLab可以非常便捷地對(duì)此類(lèi)鏡頭進(jìn)行光線追跡和場(chǎng)追跡分析。通過(guò)場(chǎng)追跡，可以清楚地觀察由于矢量效應(yīng)引起的聚焦光斑失對(duì)稱(chēng)現(xiàn)象。利用相機(jī)探測(cè)器和電磁場(chǎng)探測(cè)器能夠?qū)劢箙^(qū)域進(jìn)行靈活全面的研究，進(jìn)而加深對(duì)矢量效應(yīng)的理解。 M< Bo<,!ua
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Ct `)R 2. 建模任務(wù) C1{Q 4(K%
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 YQD `4ND <p<6!tdO 3. 概述 0i }.l\
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示例系統(tǒng)包含了高數(shù)值孔徑物鏡 K_+M?ap_
下一步，我們將闡述如何遵循VirtualLab中推薦的工作流程執(zhí)行示例系統(tǒng)的仿真。 N|mggz
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 + On2R&m O_ r-(wE4 4. 光線追跡仿真 7J3A]>qU 2XyyU}.$ rWWp P<
首先，選擇“Ray Tracing System Analyzer”作為仿真引擎。 (;g/wb:
點(diǎn)擊“Go!”。 |m\7/&@<
隨即獲得3D光線追跡結(jié)果 kR1
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