如何分析部分干涉成像系統(tǒng) （光刻機(jī)系統(tǒng)） s:ig;zb  
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在光刻應(yīng)用中，所使用的光源不是完全相干的，如何在晶片上分析部分相干成像系統(tǒng)中的掩模? no_;^Ou?  
在這里給大家分享一個(gè)案例， 希望可以幫到大家。     mrWPTCD{  
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這里是一步一步的如何在ZEMAX 中操作：https://sot.com.sg/coherent-imaging/ `u6CuH
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