如何分析部分
干涉成像系統(tǒng) （光刻機(jī)系統(tǒng)）
W[a"&,okqO tPN CdA 在光刻應(yīng)用中，所使用的
光源不是完全相干的，如何在晶片上分析部分相干成像系統(tǒng)中的掩模?
/'E[03I~ 在這里給大家分享一個(gè)案例， 希望可以幫到大家。
E{ e :8@eon} <?}pCX/O 這里是一步一步的如何在
ZEMAX 中操作：
https://sot.com.sg/coherent-imaging/
S kr0WQ s^IC]sW\% 這里是案例的ZEMAX
文件： 備注： 我用的ZEMAX 是20年版本， 如果您版本過低，可能無法正常打開， 請諒解！
0'.z|J g= :@"o.8p 如果不能打開文件， 請告知我， 我轉(zhuǎn)發(fā)給你。
L(u@%.S MMC$c=4" 回帖是對我分享的一個(gè)鼓勵(lì)， 謝謝回帖！
