如何分析部分干涉成像系統(tǒng) （光刻機(jī)系統(tǒng)） ZMmaM "9  
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在光刻應(yīng)用中，所使用的光源不是完全相干的，如何在晶片上分析部分相干成像系統(tǒng)中的掩模? P-9
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在這里給大家分享一個(gè)案例， 希望可以幫到大家。     %liu[6_  
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這里是一步一步的如何在ZEMAX 中操作：https://sot.com.sg/coherent-imaging/ )ndcBwQc"  
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這里是案例的ZEMAX 文件： 備注： 我用的ZEMAX 是20年版本， 如果您版本過低，可能無法正常打開， 請(qǐng)諒解！ f,