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    [轉(zhuǎn)載]馬赫澤德干涉儀 [復(fù)制鏈接]

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    只看樓主 倒序閱讀 樓主  發(fā)表于: 2020-07-02
    摘要 K+T .o6+  
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     9Z6C8J v  
    R1-k3;v^  
    干涉測(cè)量法是一項(xiàng)用于光學(xué)測(cè)量的重要技術(shù)。它被廣泛應(yīng)用于表面輪廓、缺陷、機(jī)械和熱變形的高精度測(cè)量。作為一個(gè)典型示例，在非序列場(chǎng)追跡技術(shù)的幫助下，于 VirtualLab Fusion中建立了具有相干激光源的馬赫-澤德干涉儀。該例證明了光學(xué)元件的傾斜和位移對(duì)干涉條紋圖的影響。 L z\UZeq  
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    建模任務(wù) XW L^  
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    由于組件傾斜引起的干涉條紋 I|/'Ds:  
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    由于偏移傾斜引起的干涉條紋 M)cGz$Q|  
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