臺積電2nm制程研發(fā)取得突破
據(jù)報道,臺積電沖刺先進制程,在2nm研發(fā)有重大突破,已成功找到路徑,將切入環(huán)繞式柵極技術(gate-all-around,簡稱GAA)技術。 三星已決定在3nm率先導入GAA技術,并宣稱要到2030年超過臺積電,取得全球邏輯芯片代工龍頭地位,臺積電研發(fā)大軍一刻也不敢松懈,積極投入2nm研發(fā),并獲得技術重大突破,成功找到切入GAA路徑。 臺積電負責研發(fā)的資深副總經(jīng)理羅唯仁,還為此舉辦慶功宴,感謝研發(fā)工程師全心投入。 臺積電3nm制程預計明年上半年在南科18廠P4廠試產(chǎn)、2022年量產(chǎn),業(yè)界以此推斷,臺積電2nm推出時間將在2023年到2024年間。 |