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    [推薦]馬赫-曾德?tīng)柛缮鎯x [復(fù)制鏈接]

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    只看樓主 倒序閱讀 樓主  發(fā)表于: 2020-08-06
    摘要 W3W'oo  
     6+rlXmd  
    干涉測(cè)量是一種光學(xué)計(jì)量的重要技術(shù)。 它被廣泛應(yīng)用于表面輪廓，缺陷，機(jī)械和高精度熱變形等領(lǐng)域的測(cè)量。 作為一個(gè)典型的例程，在非序列場(chǎng)追跡的幫助下，我們?cè)?span onclick="sendmsg('pw_ajax.php','action=relatetag&tagname=VirtualLab',this.id)" style="cursor:pointer;border-bottom: 1px solid #FA891B;" id="rlt_9">VirtualLab Fusion中建立了具有相干激光源的馬赫-曾德?tīng)柛缮鎯x，本案例清楚地展示了光學(xué)元件的傾斜和移位對(duì)干涉條紋圖案的影響。 FwKj+f"  
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    建模任務(wù) a[bBT@f  
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    元件傾斜引起的干涉條紋 S&nxok`e^  
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    元件移位引起的干涉條紋 fpyz'   
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    文件信息 0X2@CPIFf  
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    QQ：2987619807
     
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