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    [推薦]馬赫-曾德爾干涉儀 [復(fù)制鏈接]

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    只看樓主 倒序閱讀 樓主  發(fā)表于: 2020-08-06
    摘要 JnsXEkM)  
     Mvcl9  
    干涉測量是一種光學(xué)計(jì)量的重要技術(shù)。 它被廣泛應(yīng)用于表面輪廓，缺陷，機(jī)械和高精度熱變形等領(lǐng)域的測量。 作為一個(gè)典型的例程，在非序列場追跡的幫助下，我們在VirtualLab Fusion中建立了具有相干激光源的馬赫-曾德爾干涉儀，本案例清楚地展示了光學(xué)元件的傾斜和移位對干涉條紋圖案的影響。 @pS[_!EqYz  
    dJ&s/Z/>E  
    建模任務(wù) 8 Zj>|u  
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    元件傾斜引起的干涉條紋 [&`>&u@MK  
    cEQa 6  
    /gdo~  
    元件移位引起的干涉條紋 pF