摘要 wa(Wit"-  
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干涉測(cè)量是一種光學(xué)計(jì)量的重要技術(shù)。 它被廣泛應(yīng)用于表面輪廓，缺陷，機(jī)械和高精度熱變形等領(lǐng)域的測(cè)量。 作為一個(gè)典型的例程，在非序列場(chǎng)追跡的幫助下，我們?cè)?span onclick="sendmsg('pw_ajax.php','action=relatetag&tagname=VirtualLab',this.id)" style="cursor:pointer;border-bottom: 1px solid #FA891B;" id="rlt_9">VirtualLab Fusion中建立了具有相干激光源的馬赫-曾德爾干涉儀，本案例清楚地展示了光學(xué)元件的傾斜和移位對(duì)干涉條紋圖案的影響。 VuO)  
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建模任務(wù) 5fvUv"m  
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元件傾斜引起的干涉條紋 %b-;Rn  
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元件移位引起的干涉條紋 6,g5To#vw  
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